搜索到258篇“ 原子层外延“的相关文章
原子外延被引量:1
1990年
原子外延是近几年发展起来的一种富有潜力的新型超薄外延技术.本文试从表面吸附反应动力学角度出发,介绍这种工艺的基本原理和生长机理.最后简述了它在器件制作中的某些应用.
彭英才
关键词:原子层外延半导体
一种强氧化原子外延方法
本发明涉及量子材料领域,特别涉及一种强氧化原子外延方法。本发明公开了在超高真空反应腔体中注入1E‑4Pa至15Pa量级臭氧,或相当的臭氧与氧气的混合气体氛围,通过纳秒级脉冲深紫外激光烧蚀氧化物固态源,产生目标元素的高能...
陈卓昱周广迪黄浩亮薛其坤
用于先进通道器件的半导体栅极堆叠原子外延
本公开内容的实施方式提供用于在基板上形成外延的方法及装置。将基板暴露于脉冲激光辐射以清洁、退火,和/或活化基板的表面。然后在自限制沉积工艺中将基板暴露于沉积前驱物。可再次将基板暴露于脉冲激光辐射,然后在第二自限制沉积工...
斯瓦米纳坦·T·斯里尼瓦桑阿伦·缪尔·亨特马蒂亚斯·鲍尔阿米科姆·萨德
文献传递
低温下立方和六方InN及其与AlN的合金的等离子体辅助原子外延
本发明描述了生长氮化铟(InN)材料的方法,其通过在低于300℃的温度下使用脉冲生长方法生长六方和/或立方InN。还描述了一种材料,其包含具有NaCl型晶相的面心立方晶格晶体结构的InN。
倪瑞·尼泊尔查尔斯·R·埃迪纳迪姆拉·A·马哈迪克赛义德·B·卡德里迈克尔·J·梅尔
文献传递
低温下立方和六方InN及其与AlN的合金的等离子体辅助原子外延
本发明描述了生长氮化铟(InN)材料的方法,其通过在低于300℃的温度下使用脉冲生长方法生长六方和/或立方InN。还描述了一种材料,其包含具有NaCl型晶相的面心立方晶格晶体结构的InN。
倪瑞·尼泊尔查尔斯·R·埃迪纳迪姆拉·A·马哈迪克赛义德·B·卡德里迈克尔·J·梅尔
文献传递
原子外延生长Ⅲ-Ⅴ族化合物薄膜机理的研究进展
2012年
介绍了用于外延生长Ⅲ-Ⅴ族化合物薄膜的原子外延(ALE)的国内外进展。以GaAs为例,讨论了ALE生长Ⅲ-Ⅴ族化合物的表面反应机理。GaAs的ALE表面反应机理主要有两种:一种是吸附质阻挡机理,即Ga-(CH3)3在表面发生热解,最终Ga(CH3)x(x=1或2)在表面吸附,依靠Ga(CH3)x中CH3的空间位阻效应,表面反应自动停止;另一种是选择性吸附机理,即Ga(CH3)3在表面热解后形成的吸附物质是Ga原子,当表面完全覆盖一Ga原子,即表面Ga原子饱和,表面反应自动停止。还介绍了ALE生长中的气相反应以及H原子对ALE生长过程的影响。
何晓崐左然徐楠于海群
关键词:原子层外延GAAS
电化学原子外延制备Bi-Se系薄膜
采用电化学原子外延(electrochemical atomic layer epitaxy,ECALE)方法尝试在 Pt 电极上沉积 BiSe纳米热电薄膜.利用循环伏安扫描研究了 Bi、 Se在 Pt 电极上的欠电势...
肖承京杨君友朱文段兴凯张亲亲李凯李良彪
关键词:UPD
文献传递
电化学原子外延制备Bi—Se系薄膜被引量:1
2007年
采用电化学原子外延(electrochemical atomic layer epitaxy,ECALE)方法尝试在Pt电极上沉积Bi2Se3纳米热电薄膜。利用循环伏安扫描研究了Bi^3+、Se^4+在Pt电极上的欠电势沉积参数,在此基础上利用自动电沉积系统交替沉积400个Bi、Se原子。采用电量分析、XRD、EDX对沉积物进行表征。电量分析表明沉积物中存在硒的富余,XRD结果表明沉积物中除了Bi2Se3化合物外还有单质Se的富余。EDX分析沉积物的硒铋原子比为4:1,与XRD分析结果一致。
肖承京杨君友朱文段兴凯张亲亲李凯李良彪
关键词:UPD
Bi_2Te_3热电薄膜的电化学原子外延制备被引量:7
2006年
采用电化学原子外延法(ECALE)在Au电极上成功地制备了Bi2Te3化合物热电薄膜。通过循环伏安扫描研究Te和Bi在Au衬底上的电化学特性,使用自动沉积系统交替欠电位沉积Te、Bi原子200个循环获得沉积物。XRD、EDX和FESEM测试结果表明循环沉积200后得到的沉积物Bi和Te的化学计量比为2∶3,且是Bi2Te3薄膜化合物,而非单质Bi和Te的简单混合;薄膜均匀、致密、平整且可重复性好,以(015)为最优取向外延生长的。
侯杰杨君友朱文郜鲜辉
关键词:BI2TE3热电材料
电化学原子外延制备纳米薄膜热电材料的研究
热电材料能够实现热能和电能之间的直接转换,是一种十分理想的电源和制冷器材料。传统热电材料存在主要问题是:材料的热电优值(ZT)小,热电转换效率低;制备工艺和目前微电子制造业的发展趋势不相适应,阻碍了其在“微观”制冷领域的...
郜鲜辉
关键词:热电材料电化学特性
文献传递

相关作者

罗岚
作品数:178被引量:382H指数:11
供职机构:南昌大学
研究主题:荧光粉体 荧光粉 钆 镁合金 中间合金
刘勇
作品数:211被引量:415H指数:12
供职机构:南昌大学
研究主题:镁合金 中间合金 镁基复合材料 力学性能 再生铝合金
郭锐
作品数:60被引量:88H指数:4
供职机构:南昌大学
研究主题:荧光粉 红色荧光粉 镧 化学计量比 镁合金表面
赵万顺
作品数:136被引量:32H指数:4
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 3C-SIC 衬底 外延层 SIC
曾一平
作品数:584被引量:311H指数:8
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:分子束外延 衬底 碳化硅 氮化镓 缓冲层