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时效性降序
时效性升序
相关度排序
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时效性降序
时效性升序
晶圆装载系统、
快速
热
退火
工艺机台、半导体设备
本实用新型提供一种晶圆装载系统、
快速
热
退火
工艺机台、半导体设备。其中,所述晶圆装载系统能够在晶圆被放置或拾取之前,利用定位组件实现对晶圆相对边缘环的水平位置检测。其中,所述定位组件包括至少三个所述位置传感器。各个所述位置...
高帅
李大川
焦圣杰
一种监测
快速
热
退火
设备稳定性的方法
本发明涉及一种监测
快速
热
退火
设备稳定性的方法,属于
快速
热
退火
设备监测技术领域。本发明的监测
快速
热
退火
设备稳定性的方法,包括以下步骤:S1.通过在不同参数条件下的模拟计算,得出温度的规律;S2.分别根据模拟计算的参数进行实...
刘思淼
张海宇
李彦庆
叶武阳
徐志峰
一种用于发光二极体产品的
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热
退火
方法
本发明涉及一种用于发光二极体产品的
快速
热
退火
方法,旨在通过优化
退火
过程中的气体通入时机与多段式降温策略,减少制造过程中产生的内应力,并促进晶格缺陷的修复,提升LED产品的电压稳定性和亮度表现。该方法包括在真空环境中将LE...
吴霁圃
王海红
程叶
碳化硅晶圆
快速
热
退火
用测温装置及晶圆
快速
热
退火
设备
本实用新型提供了一种碳化硅晶圆
快速
热
退火
用测温装置及晶圆
快速
热
退火
设备。碳化硅晶圆
快速
热
退火
用测温装置,晶圆载具上设有至少一个用于承载碳化硅晶圆的顶针,包括:支撑结构,支撑结构包括凸台,凸台的第一端与晶圆载具连接,凸台的...
张鹏
冯尹
一种
快速
热
退火
装置
本发明公开了一种
快速
热
退火
装置,用于晶圆的处理,
快速
热
退火
装置包括壳体、垂直腔面发射激光器和多个控制模块,壳体内限定出反应腔,晶圆位于反应腔内;垂直腔面发射激光器设有两个,且均位于反应腔内,两个垂直腔面发射激光器设置在晶...
王涛
碳化硅晶圆
快速
热
退火
用导
热
衬片及其制备方法和载具
本发明提供了一种碳化硅晶圆
快速
热
退火
用导
热
衬片及其制备方法和载具,导
热
衬片用于对碳化硅晶圆进行辅助加
热
,导
热
衬片包括:衬片基体(1),衬片基体(1)的至少一侧的表面上设置有槽结构,槽结构至少包括第一凹槽结构(10),第一...
冯尹
张鹏
快速
热
退火
设备的腔体的漏氧及温度监控的方法及系统
本发明公开了一种
快速
热
退火
设备的腔体的漏氧及温度监控的方法及系统,其中方法包括以下步骤:将放入Ti片的腔体升温至723℃~727℃,保持50至70秒;测量Ti片的方块电阻的阻值和方块电阻阻值的均匀性;判断Ti片的方块电阻...
归剑
王海红
碳化硅晶圆
快速
热
退火
用导
热
载具
本发明提供了一种碳化硅晶圆
快速
热
退火
用导
热
载具,包括:基板,基板为两个,两个基板相对地设置;连接结构,连接结构设置于两个基板之间,连接结构的两端分别与两个基板连接,连接结构和两个基板之间形成用于容纳碳化硅晶圆的容纳空间,...
冯尹
张鹏
快速
热
退火
机台
本发明提供了一种
快速
热
退火
机台。该
快速
热
退火
机台包括反应腔室;边缘环,配置于所述反应腔室中,用于承载晶圆,所述边缘环与所述反应腔室的内壁之间形成供气体流经的环形间隙;多个气体引流件,配置于所述反应腔室内壁上;排气口,呈环...
徐鸿武
晶圆边缘保护装置和
快速
热
退火
炉
本实用新型提供了一种晶圆边缘保护装置和
快速
热
退火
炉。该晶圆边缘保护装置包括:边缘保护承载架;石英罩,设置于边缘保护承载架的内周侧,并与边缘保护承载架之间形成环形凹槽;边缘保护环,安装于环形凹槽内,并由石英罩进行承托。根据...
姚均豹
郭建亮
张凯
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徐秋霞
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