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研磨
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相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
相关度排序
相关度排序
被引量排序
时效性降序
时效性升序
研磨
金令诚编著
关键词:
研磨
研磨
装置
本实用新型提供了一种
研磨
装置,包括:
研磨
台、
研磨
垫和
研磨
垫修整器;
研磨
垫修整器包括:钻石盘、第一旋转轴、第一支承臂、第二支承臂和底座,第一支承臂包括:容置腔和设于容置腔上的盖板,盖板的上表面为倾斜面。本申请通过将盖板的上...
奚达
卢佳微
刘翼辉
瞿治军
王泽飞
夏金伟
研磨
装置
本发明提供一种能够抑制
研磨
液导致的遮蔽并测定基板的表面温度的
研磨
装置。
研磨
装置具备:通过检测微波来生成微波检测数据的微波检测传感器(51);以及基于微波检测数据来决定基板(W)的表面温度的控制装置(100)。
尹升镐
研磨
罐
本实用新型提供了一种
研磨
罐,涉及碎磨技术领域。该
研磨
罐包括罐体、与罐体密封连接的罐盖以及设置于罐体内的
研磨
撞子。
研磨
撞子包括壳体、设置于壳体内的
研磨
定子以及连接
研磨
定子与壳体的弹簧。罐体、
研磨
撞子以及
研磨
定子均呈长方体设...
王铜
张磊
高歌
王艳
马东梅
研磨
腔体
本发明涉及一种
研磨
腔体,包括
研磨
腔本体及设置在所述
研磨
腔本体内壁上的内衬。上述
研磨
腔体通过在
研磨
腔本体的内壁上设置内衬,进行
研磨
垃圾时垃圾直接撞击内衬的内壁,可有效防止
研磨
腔本体的内壁受到磨损和击破,有利于提高该
研磨
腔体...
梁孝峰
向荣
研磨
设备
本实用新型提供了一种
研磨
设备。所述
研磨
设备包括:基座,沿所述基座的外壁设置有多个第一凸起和/或多个第一凹槽;
研磨
盘,所述
研磨
盘设置在所述基座的上方,所述
研磨
盘的外沿设置有能够套接所述基座的第一套筒,所述第一套筒的内壁设置...
于全胜
杨俊男
闫晓晖
研磨
装置
本申请公开一种
研磨
装置,
研磨
装置包括:
研磨
支架,
研磨
支架上设置有
研磨
仓;
研磨
组件,
研磨
组件设置在
研磨
仓内;出粉通道,出粉通道与
研磨
仓连通;叶轮,叶轮设置在
研磨
组件的下方,叶轮包括多个叶片;等离子发生器,至少一个等离子发生...
张育奇
王洪涛
研磨
机
本实用新型涉及玻璃基板
研磨
技术领域,尤其涉及一种
研磨
机。该
研磨
机用于
研磨
玻璃基板边缘,该
研磨
机包括护罩和喷水部件,护罩设置有供玻璃基板插入以进行
研磨
的容置槽,喷水部件具有平整的连接面,喷水部件的连接面固定贴设在容置槽的内...
周荧彬
董光明
陈涛涛
胡芳林
张同敬
古国祥
赵玉乐
李震
研磨
设备
本公开涉及
研磨
设备,包括基底、可通过驱动装置沿基底和/或随基底移动的
研磨
表面、邻近基底安装的一个或更多个处理腔室、用于感测一个或更多个过程变量的感测装置以及可操作地连接至驱动装置、感测装置和处理腔室的控制装置,处理腔室或...
亚历克·安德森
研磨
装置
本发明提供一种
研磨
装置,能够抑制因残存于流路的
研磨
液导致流路发生堵塞的现象,并且假设在流路发生了堵塞的情况下,能够检测所述堵塞的发生。
研磨
装置(1)包括控制装置(90),控制装置(90)执行:清洗处理,在
研磨
机(10)所...
伊藤雅佳
森浦拓也
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刘晓初
作品数:625
被引量:334
H指数:10
供职机构:广州大学
研究主题:研磨 研磨加工 轴承 灌溉 轴承套圈
萧金瑞
作品数:350
被引量:59
H指数:5
供职机构:广州大学
研究主题:研磨 研磨加工 灌溉 轴承 研磨机
梁忠伟
作品数:471
被引量:129
H指数:7
供职机构:广州大学
研究主题:研磨 研磨加工 灌溉 轴承 研磨机
袁巨龙
作品数:483
被引量:1,357
H指数:16
供职机构:浙江工业大学
研究主题:抛光 磨粒 研磨 研磨盘 抛光液
吕冰海
作品数:390
被引量:724
H指数:11
供职机构:浙江工业大学
研究主题:抛光 抛光液 磨粒 研磨 研磨盘
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