公共文化服务平台

2025年4月15日星期二

|

欢迎来到青海省图书馆•公共文化服务平台

登录 | 注册 | 进入后台

搜索到3999篇“ 等离子刻蚀“的相关文章

一种用于半导体制造的ICP等离子刻蚀装置: 本实用新型公开了一种用于半导体制造的ICP等离子刻蚀装置，涉及半导体制造技术领域，包括等离子刻蚀箱体和清扫组件，所述等离子刻蚀箱体的顶部内壁设置有送气管，所述等离子刻蚀箱体的底部内壁固定连接有提升架，用于进行清扫的所述清...; 王硕

等离子刻蚀腔的加工时间预测方法、系统及维护方法: 本发明提供一种等离子刻蚀腔的加工时间预测方法、系统及维护方法，该加工时间预测方法通过实验获取新制程下与边缘环材质相同或相近的测试控片边缘的至少一个位置的消耗速率，作为新制程下边缘环的对应位置的消耗速率，由此可以根据现有制...; 请求不公布姓名

基于硼靶材磁控溅射的等离子刻蚀方法和镀膜方法: 本发明公开基于硼靶材磁控溅射的等离子刻蚀方法和镀膜方法，属于薄膜材料制备技术领域。等离子刻蚀方法包括：在磁控溅射设备真空室中，样品架上安装基片，阴极上安装硼靶材；对磁控溅射设备真空室抽真空，通入氩气，对所述基片施加双极脉...; 刘凤琼卢子伟李荣华张宏斌李海霞李占奎王秀华陈翠红

电感耦合等离子刻蚀技术制作卤化物钙钛矿阵列图形的方法: 本发明公开电感耦合等离子刻蚀技术制作卤化物钙钛矿阵列图形的方法，包括以下步骤：1）制备卤化物钙钛矿薄膜；2）离子刻蚀阵列图形：在卤化物钙钛矿薄膜上覆盖掩膜板，掩膜板所形成的图案与卤化物钙钛矿阵列图形相对应，利用电感耦合等...; 赵振璇张建刚孙伟杰陈墨冯雅晴

一种晶圆等离子刻蚀设备: 本说明书实施例提供一种晶圆等离子刻蚀设备，包括：热台，晶圆放置于热台上，热台周向边缘处开设有若干气体馈入孔；管道组件，管道组件用于向若干气体馈入孔内通入气体；调节机构，调节机构可对若干气体馈入孔吹向晶圆的气体速度和/或气...; 向浪王兆祥李可涂乐义梁洁王亮彭国发

电场分布调节装置和等离子刻蚀机: 本发明公开了一种电场分布调节装置，包括第一屏蔽板和第二屏蔽板；第一屏蔽板设有镂空孔；第二屏蔽板和第一屏蔽板相连，并且两个屏蔽板能相对运动；第二屏蔽板相对于第一屏蔽板运动时能够调节镂空孔的开度。第一屏蔽板和第二屏蔽板分别能...; 郭颂王海东刘磊张彪贺小明张亦涛胡冬冬许开东

等离子刻蚀机及其辅助电场变径装置: 本发明公开了一种等离子刻蚀机的辅助电场变径装置，包括屏蔽板，所述屏蔽板能屏蔽电场，且所述屏蔽板的中部设有透孔；所述屏蔽板为整块板，并且所述屏蔽板为多个，各所述屏蔽板的透孔尺寸不同；或者所述屏蔽板包括多个活动屏蔽板，各所述...; 郭颂王海东刘磊刘小波贺小明张亦涛胡冬冬许开东

等离子刻蚀装置: 本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种等离子刻蚀装置，包括静电吸盘、聚焦环以及支撑环，所述支撑环设置在所述静电吸盘上，所述聚焦环设置在所述支撑环的上方，所述聚焦环的下表面设置有第一斜面，所述支撑环的上表面设置有与...; 叶璘珂陈诚张德伟荆泉

一种等离子刻蚀装置: 本发明公开了一种等离子刻蚀装置，包括：真空腔体、上电极、下电极和上下电极运动装置；其中所述上电极和所述下电极均位于所述真空腔体内，上下电极运动装置包括传动杆和直线电机。在刻蚀的整个过程中，既需要加热又需要冷却，由于在刻蚀...; 崔岸郝裕兴张睿陈宠刘芳芳刘天赐黄显晴杨伟丽徐晓倩

射频系统和等离子刻蚀设备: 本申请提供一种射频系统，用于等离子刻蚀设备，所述射频系统包括：射频发生器，用于产生射频信号；阻抗匹配器，与所述射频发生器信号连接，用于接收、传输所述射频信号并根据所述射频信号自修改匹配阻抗；线圈组，用于接收所述阻抗匹配器...; 翟大磊

加载更多 ∨

相关作者

夏洋: 作品数：513被引量：68H指数：5; 供职机构：中国科学院微电子研究所; 研究主题：原子层沉积等离子体氧化锌薄膜 SUB 共掺

李勇滔: 作品数：197被引量：23H指数：3; 供职机构：中国科学院微电子研究所; 研究主题：等离子体 SUB 硅衬底射频电源离子注入

张庆钊: 作品数：48被引量：27H指数：3; 供职机构：中国科学院微电子研究所; 研究主题：启辉原子层沉积等离子体刻蚀工艺电极

席峰: 作品数：27被引量：0H指数：0; 供职机构：中国科学院微电子研究所; 研究主题：启辉电极等离子体等离子刻蚀进气结构

李楠: 作品数：134被引量：19H指数：3; 供职机构：中国科学院微电子研究所; 研究主题：原子层沉积启辉等离子体电极半导体制造技术