搜索到177篇“ ATMP“的相关文章
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- 方安然肖志壮
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- 先进治疗药物(Advanced therapy medicinal products,ATMP)是基于基因、组织或者细胞制备供人类使用的药物。此外,一种先进治疗药物可能包含一种或多种医疗器械,作为药物的组成部分,称为组合先进治疗药物,以上是欧盟对先进治疗药物的定义[1]。细胞与基因治疗的市场潜力巨大,同时研究人员在操作过程中也面临一些困难。例如,开放和手动操作过渡到商业生产所需的密闭处理能力;从贴壁细胞过渡到悬浮细胞培养所需的规模扩展性;自体细胞产品供者材料和产品标识信息在运输和操作过程中应明确标识并可追溯管理。本文将结合先进治疗药物产品平台技术的需求,探讨问题的解决思路。
- 赵蓬金磊
- 关键词:ATMPRTP
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- 2024年
- 火电厂换热器中广泛存在的水垢降低了换热效率,在特定条件下会导致垢下腐蚀。目的阻垢剂ATMP是一种目前常用于水处理领域的化学物质,永磁场为一种新型环保阻垢技术。为了研究阻垢剂ATMP与外加永磁场二者协同作用下阻垢性能的作用规律,搭建新的实验系统,基于人工配制的高硬度溶液开展实验研究。方法基于配置的高硬度溶液,对比分析结垢实验、永磁场阻垢实验、氨基三亚甲基膦酸(ATMP)阻垢实验和ATMP与永磁场(PM)协同阻垢实验的Ca^(2+)浓度、电导率、浊度和U型加热管表面结垢形貌;通过计算每次实验结束后溶液中Ca^(2+)浓度,得到不同类型实验的阻垢效率。结果结果表明,ATMP&PM阻垢、ATMP阻垢、PM阻垢实验的阻垢率分别为74.7%,60.8%,10.7%。对实验后沉淀的CaCO_(3)晶体进行表征,XRD图谱峰值变化揭示CaCO_(3)晶体的形貌发生了亚稳相变化,部分方解石CaCO_(3)晶型转成亚稳态球霰石CaCO_(3)晶型。通过Jade软件对CaCO_(3)晶体进行定量分析,结果表明:ATMP&PM阻垢、ATMP阻垢、PM阻垢实验的球霰石CaCO_(3)晶型质量分数分别增加到59.6%,54.3%,28.9%;ATMP&PM协同阻垢的阻垢效率最高,并且ATMP和永磁场都可以延长CaCO_(3)成核诱导期,促进生成能量更高的球霰石CaCO_(3)晶体,从而达到阻垢抑垢的目的。结论永磁场与ATMP协同处理高硬度循环水,既能提高阻垢效率,又能降低成本,并减少对环境的污染。
- 陈小砖吴晨钊赵佳盛伟张安超
- 关键词:方解石协同阻垢
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- 陈天翊
- ATMP氨基三甲叉膦酸生产工艺中含甲醛酸性废水的协同化处理工艺技术被引量:1
- 2023年
- 随着社会的发展和资源的开发,工业化生产过程中会产生大量的酸性废水,酸性废水的存在会对环境产生巨大的破坏作用。着力于促进水处理技术进步和推动产业创新发展的目标,聚焦废水资源化,从山东鑫泰水处理技术股份有限公司的氨基三甲叉膦酸(ATMP)生产过程中产生的含甲醛酸性废水进行资源再生的需求出发,综述含甲醛酸性废水处理研究技术,初步探究其清洁化生产工艺技术设计。
- 崔进罗海南
- 关键词:酸性废水清洁化生产生产工艺
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- 为了提高晶圆中硅通孔(TSV)阻挡层材料化学机械抛光(CMP)中Ta和Cu的去除速率选择比,在工作压力为3 psi(1 psi=6895 Pa)、抛光头转速为87 r/min、抛光盘转速为93 r/min、抛光液体积流量为300 m L/min的条件下,研究了氨基三甲叉膦酸(ATMP)作为络合剂对Ta和Cu的去除速率以及去除速率选择比的影响。通过电化学方法探究了ATMP对Ta和Cu的络合机制,利用原子力显微镜对比了抛光前后的表面质量。研究结果显示:在ATMP质量分数为1.5%时,Ta和Cu的去除速率分别为157.96和58.6 nm/min,验证了ATMP对提高Ta和Cu的去除速率选择比具有明显效果,Ta和Cu抛光前后的表面粗糙度分别由4.2 nm降低至0.284 nm以及由1.31 nm降低至0.51 nm,表面质量得到明显改善,证明了ATMP适合用于TSV晶圆阻挡层材料抛光。
- 董延伟王如郑涛石芸慧刘彬王帅
- 关键词:阻挡层去除速率
- 亮菌多糖ATMP治疗溃疡性结肠炎的作用及机制探究
- 李园园
- 一种ATMP衍生的导电水凝胶及其制备方法和应用
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- 李俊吉 程谦亮 徐莲花
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- 乔丽红袁江刘宝同方安然梁晶晶吕伟毛赛亚王松崔帅
- 一种抑菌活性提高的抗菌肽ATMP7突变体及其应用
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- 肖志壮于文君方安然孙建飞付五兵许睿显王波
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