国家自然科学基金(10773007)
- 作品数：4 被引量：12H指数：2
- 相关作者：王占山朱京涛蒋励翟梓融黄怡更多>>
- 相关机构：上海市特殊人工微结构材料与技术重点实验室同济大学中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科学技术委员会科研基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 多层膜聚光镜对Schwarzschild显微镜成像均匀性的影响
- 2011年
- 提出了利用多层膜聚光镜提高Schwarzschild显微镜成像均匀性的方法。设计了聚光镜的光学结构,使80%的等离子体辐射能量会聚在约0.8 mm直径的范围内。根据成像系统的工作波长和光线在聚光镜表面的入射角度,设计了Mo/Si周期多层膜,制备了聚光镜光学元件,膜层周期厚度为9.64 nm,周期数为30,对18.2 nm波长的峰值反射率为51.7%。利用所设计的聚光镜作为照明系统,对Schwarzschild物镜进行了网格成像实验。结果表明:在1.2 mm视场内可以实现2.5μm的空间分辨力,并且完全消除了物镜中心遮拦所造成的像面光强分布不均匀性。
- 王新穆宝忠黄怡翟梓融伊圣振蒋励朱京涛王占山刘红杰曹磊峰谷渝秋
- 关键词：激光等离子体MO/SI多层膜
- 等离子体诊断用Schwarzschild显微镜的光学设计被引量：1
- 2011年
- 基于三级像差理论设计了用于激光等离子体诊断的极紫外Schwarzschild显微镜光学系统。显微镜的工作波长为18.2 nm,数值孔径为0.1,放大倍数为10。光学设计得到中心视场空间分辨力达0.3μm,±1 mm视场内分辨力约0.4μm的结果。分析了Schwarzschild成像系统的物镜装配、系统装调及光学元件加工误差对像质的影响,结果显示光学元件局部面形误差是影响系统成像分辨力的主要因素。通过提高系统装调的精度,可以有效补偿像距误差、两镜间距误差及曲率半径误差对像质的影响。综合考虑实际加工和装调能力,制定了系统整体公差方案,考虑公差后光学系统能够在±1 mm视场内获得3μm的空间分辨力,达到了等离子体诊断的要求。
- 黄怡穆宝忠王新翟梓融伊圣振王占山
- 关键词：视场公差
- 等离子体诊断用18.2nm Schwarzschild显微镜被引量：5
- 2011年
- 研制了用于超快激光等离子体诊断的Schwarzschild型正入射显微镜,该显微镜工作波长为18.2 nm,数值孔径为0.1,放大倍数为10。根据诊断要求设计了Schwarzschild物镜的光学结构,计算了物镜的光学传递函数,结果显示,设计的物镜在±1 mm视场范围内像方空间分辨力可达125 lp/mm。根据系统工作波长和光线在镜面的入射角度设计了Mo/Si周期多层膜反射镜,制作了Schwarzschild显微镜光学元件,镀制的膜系周期厚度为9.509 nm,周期数为30,对18.2 nm波长的反射率约31.1%。利用激光等离子体光源对24 lp/mm网格进行了成像实验,实验结果表明:系统在中心视场的分辨力为3μm,600μm内视场的分辨力为5μm。
- 王新穆宝忠黄怡翟梓融伊圣振蒋励朱京涛王占山刘红杰曹磊峰谷渝秋
- 关键词：激光等离子体MO/SI多层膜
- 磁控溅射制备的W,WSi_2,Si单层膜和W/Si,WSi_2/Si多层膜应力被引量：6
- 2011年
- 采用直流磁控溅射技术制备了厚度约100nm的W,WSi2,Si单层膜和周期约为20nm,Si膜层厚度与周期的比值为0.5的W/Si,WSi2/Si周期多层膜。利用台阶仪对镀膜前后基底表面的面形进行了测试,计算并比较了不同膜系的应力值。结果表明:W单层膜表现出较大的压应力,而W/Si周期膜则表现为张应力。WSi2单层膜和WSi2/Si周期多层膜均表现为压应力,没有应力突变,应力特性最为稳定。因此,WSi2/Si材料组合是研制大膜对数X射线多层膜较好的材料组合。
- 黄秋实李浩川朱京涛王晓强蒋励王占山唐永建
- 关键词：应力磁控溅射
