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国家自然科学基金(60671004)

作品数:2 被引量:2H指数:1
相关作者:戴君王兴治马宏何少伟易新建更多>>
相关机构:华中科技大学武汉光电国家实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇氧化钒薄膜
  • 2篇探测器
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射法
  • 2篇溅射法制备
  • 2篇红外
  • 2篇红外探测
  • 2篇红外探测器
  • 2篇非制冷
  • 2篇非制冷红外
  • 2篇非制冷红外探...
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇多晶材料
  • 1篇纳米
  • 1篇VO

机构

  • 2篇华中科技大学
  • 1篇武汉光电国家...

作者

  • 1篇易新建
  • 1篇何少伟
  • 1篇马宏
  • 1篇王兴治
  • 1篇戴君

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究
用直流磁控溅射法在相对较低温度220℃下制备出电阻温度系数(TCR)为-1.9%/℃的 VO薄膜。通过 XRD、AFM、红外透过测试方法对薄膜的形貌、组分及其红外吸收性能进行分析,结果表明该 VO 薄膜非常适合用作非制冷...
戴君王兴治何少伟马宏易新建
关键词:氧化钒薄膜非制冷红外探测器磁控溅射
文献传递
磁控溅射法制备氧化钒薄膜的研究被引量:2
2007年
主要介绍了红外探测器的分类、发展,及基于氧化钒薄膜的热探测器的优势;采用直流磁控溅射法在相对较低温度220℃下制备出电阻温度系数(TCR)为-1.9%/℃的VOx薄膜.通过XRD、AFM、红外透过测试方法对薄膜的形貌、组分及其红外吸收性能进行分析,结果表明该VOx薄膜非常适合用作非制冷红外探测器热敏材料.与传统的工艺相比,由于该薄膜淀积过程无需高温退火,在后期的红外焦平面制作过程中,可以较好地保护红外焦平面阵列的CMOS电路.
戴君王兴治何少伟马宏易新建
关键词:氧化钒薄膜非制冷红外探测器磁控溅射
纳米VO_2多晶材料的低温相变和随机阻抗网络模型
2009年
制备了纳米VO2多晶薄膜材料,其相变温度为35℃,实验测量了它的电阻-温度(R-T)曲线和热滞回线,并用随机阻抗网络模型进行了R-T曲线和热滞回线模拟,两者显示出结果一致,表明在低温相变温度35℃下,随机阻抗网络模型适用于纳米VO2多晶薄膜R-T曲线和热滞回线。此外,给出了VO2多晶材料在半导体区和金属区的简化随机阻抗网络模型的电阻公式。
熊笔锋马宏
共1页<1>
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