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教育部科学技术研究重点项目(105145)

作品数:5 被引量:26H指数:3
相关作者:熊祖洪刘光友谭兴文王振姚金才更多>>
相关机构:西南大学更多>>
发文基金:教育部科学技术研究重点项目教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
相关领域:理学机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇LABVIE...
  • 1篇电化学
  • 1篇电化学腐蚀
  • 1篇电化学制备
  • 1篇多孔硅
  • 1篇多孔硅微腔
  • 1篇折射率
  • 1篇驱动程序
  • 1篇微腔
  • 1篇抗反射
  • 1篇抗反射膜
  • 1篇化学腐蚀
  • 1篇化学制备
  • 1篇计算机
  • 1篇光谱
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇光致发光谱
  • 1篇发光
  • 1篇

机构

  • 4篇西南大学

作者

  • 4篇熊祖洪
  • 3篇刘光友
  • 2篇陈平
  • 2篇姚金才
  • 2篇王振
  • 2篇谭兴文
  • 2篇傅添智
  • 1篇余天

传媒

  • 2篇物理学报
  • 1篇仪器仪表用户
  • 1篇实验技术与管...

年份

  • 3篇2008
  • 1篇2006
5 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
基于LabVIEW制备硅基一维光子晶体的计算机驱动程序被引量:2
2006年
在制备硅基一维光子晶体如多孔硅分布Bragg反射镜和多孔硅微腔的实验中,为实现电脑程序驱动的电化学腐蚀平台的精确控制,使制备的光子晶体高低折射率层的界面更平整和硅孔大小更加均匀,我们利用NI推出的虚拟仪器开发平台软件LabVIEW缩写了一套制备硅基一维光子晶体的计算机驱动软件。实验结果发现,由该软件驱动Keithley2400数字电源制备的PS -DBRs显示出了纳米级平整的界面和反射率高、阻止带宽的光学特性。
陈平刘光友傅添智熊祖洪
关键词:LABVIEW电化学腐蚀
电化学制备薄黑硅抗反射膜被引量:16
2008年
采用计算机控制电流密度按指数规律衰减对单晶硅进行电化学腐蚀,得到了折射率随薄膜厚度连续均匀变化的抗反射膜,即黑硅样品.这种在制取上快速、经济和工艺非常简单的样品,不仅在较宽波段范围内反射率小于5%,且整个薄膜厚度不足1μm.利用传输矩阵方法对黑硅样品的反射谱进行模拟,得到了理论与实验符合较好的结果.
刘光友谭兴文姚金才王振熊祖洪
关键词:折射率抗反射膜
基于LabVIEW的磁电阻测试系统的设计被引量:3
2008年
由于在基本理论研究和实际应用中的巨大意义与潜力,材料的磁电输运性质近20年来倍受材料物理和凝聚态物理的关注,特别是巨磁电阻(GMR)、隧穿电阻(TMR)的广泛研究更促进了自旋电子学(Spintronics)的兴起和飞速发展。随着实验的深入,提高磁电阻测试效率和自动化程度已成为研究与自旋相关的电磁输运效应的迫切要求。该文给出了一种基于LabVIEW平台下磁电阻测试系统的设计,使磁电阻测试效率有明显的提高。
陈平余天傅添智熊祖洪
关键词:磁电阻LABVIEW
有机吸附物对多孔硅微腔发光的影响被引量:4
2008年
理论上,采用Bruggeman有效介质近似,研究了有机吸附物对多孔硅微腔的折射率及其光致发光谱的影响.实验上,采用计算机控制的电化学腐蚀法制备了多孔硅微腔样品,并利用机械泵油的蒸气分子与该微腔样品进行相互作用.研究发现,多孔硅微腔发射的窄化光致发光谱对泵油蒸气分子的吸附与脱附很敏感,与之伴随的是该窄化光致发光谱发生明显的峰位移动(可达71 nm)和强度变化.结合Bruggeman近似和表面态对多孔硅发光的影响,对实验结果进行了定性解释.实验结果与理论模拟结果符合较好.
刘光友谭兴文王振姚金才熊祖洪
关键词:多孔硅微腔光致发光谱
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