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国家自然科学基金(60378026)

作品数:4 被引量:3H指数:1
相关作者:吴以成傅佩珍鲁路徐子颉常峰更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 4篇理学

主题

  • 4篇CSB
  • 3篇晶体
  • 2篇CBO
  • 1篇形貌
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇散射颗粒
  • 1篇射线衍射
  • 1篇射线衍射分析
  • 1篇硼酸
  • 1篇晶体光学
  • 1篇晶体光学性质
  • 1篇晶体生长
  • 1篇均匀性
  • 1篇化学侵蚀
  • 1篇光学
  • 1篇光学晶体
  • 1篇防潮
  • 1篇非线性光学
  • 1篇非线性光学晶...

机构

  • 3篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 3篇傅佩珍
  • 3篇吴以成
  • 2篇鲁路
  • 1篇常峰
  • 1篇范飞镝
  • 1篇张国春
  • 1篇徐子颉

传媒

  • 3篇人工晶体学报
  • 1篇Chines...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2007
  • 1篇2004
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
CsB_3O_5(CBO)晶体生长和形貌研究被引量:2
2004年
本文采用籽晶浸没法,在Cs2O过量3%的Cs2O-B2O3体系中生长了CsB3O5单晶。生长参数如下:液面以下温度梯度为0.5℃/cm,晶体旋转速度为12r/min,降温速率0.2℃/d,可获得透明、无包裹体、无开裂、最大尺寸达65 ×44×49mm3的CsB3O5单晶。研究了CsB3O5的生长形貌,CsB3O5生长没有明显的方向性,总是呈现长柱状,最易出现的晶面是(011)和(101)晶面。
常峰傅佩珍徐子颉吴以成
关键词:晶体生长形貌
原料的均匀性对CsB_3O_5晶体光学性质的影响
2007年
本文是针对紫外非线性光学晶体CsB3O5的原料处理对晶体光学质量的影响的研究报道。利用液相法合成出高度分散的原料,生长出高光学质量的CBO单晶。消除了晶体内部的光散射颗粒,并测量了该晶体的透过光谱、光学均匀性和抗激光损伤阈值。
鲁路吴以成傅佩珍
关键词:非线性光学晶体散射颗粒
Crystal Growth of CsB_3O_5 from NaF Flux
2007年
Nonlinear optical CsB3O5 single crystals have been grown successfully using NaF as a flux. The primary CsB3O5-NaF quasi-binary system has been investigated by X-ray diffraction and differential thermal analysis. There is a single eutectic point, and the eutectic composition corresponds to 40mol% NaF with the temperature of 690.5 ℃ in CsB3O5-NaF system. Volatility of the CsB3O5-NaF system along the liquidus has been measured, and the volatiles of the solution were collected and detected by XRD method. Growth of CsB3O5 crystals was carried out by different composition of NaF in CsB3O5-NaF system, and the growth parameters were discussed. Simultaneously, the properties of grown crystals from NaF flux were characterized by transmission spectrum and scanning electron microscopy.
陈国军吴以成傅佩珍
关键词:X-射线衍射分析
CsB_3O_5晶体潮解机理及防潮研究被引量:1
2009年
三硼酸铯(CsB3O5)晶体在Nd:YAG 1064 nm激光三倍频转换方面具有优良的性能,限制该晶体器件实用化的一个重要因素是其在空气中较易潮解。本文用化学侵蚀法研究了CsB3O5晶体的潮解取向,并从晶体结构上给予了解释:由于CsB3O5晶体的B-O骨架在(010)方向存在较大的通道,水分子较易沿(010)方向进入晶体而导致晶体潮解。采用了用光学增透膜结合疏水保护膜的方法防止CsB3O5晶体潮解的技术手段,使CBO晶体器件能够在常规环境中保存及使用。
鲁路吴以成范飞镝张国春傅佩珍
关键词:化学侵蚀增透膜
共1页<1>
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