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浙江省科技计划项目(2007C21061)
作品数:
1
被引量:18
H指数:1
相关作者:
洪滔
鲁聪达
文东辉
张克华
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相关机构:
浙江工业大学
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张克华
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文东辉
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洪滔
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年份
1篇
2009
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蓝宝石晶体的双面研磨加工
被引量:18
2009年
为了实现对蓝宝石晶体的高效低损伤研磨加工,对蓝宝石晶体的双面研磨加工表面粗糙度、研磨均匀性和亚表面损伤层的深度进行实验研究。采用280#碳化硼磨粒双面研磨(0001)面蓝宝石晶体,考察了研磨时间对材料去除速率、表面粗糙度的作用规律,根据蓝宝石晶体切割表面状态确定了双面研磨的加工余量;通过WYKO粗糙度仪从微观上分析了蓝宝石晶体表面的研磨均匀性;最后,应用纳米压入测试分析了亚表面损伤层的深度。实验结果表明:蓝宝石晶体经过120 min的双面研磨加工后可以获得Ra为0.523μm,Rt<6.0μm的表面;其深度损伤层约为460 nm,亚表面损伤层<1μm。
文东辉
洪滔
张克华
鲁聪达
关键词:
蓝宝石晶体
双面研磨
均匀性
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