国家自然科学基金(3090010531260059)
- 作品数：2 被引量：4H指数：1
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- 相关领域：生物学更多>>
- 两种外源化学物影响PEG胁迫对水稻根系的伤害被引量：1
- 2013年
- 研究过氧化氢内源消除剂和交替氧化酶专一性抑制剂影响渗透胁迫对水稻根系的伤害。结果表明:PEG6000胁迫抑制了水稻幼根的生长,降低了相对含水量、增加了H2O2含量,并导致细胞死亡。用5mmol·L-1二甲基硫脲(过氧化氢内源消除剂,dimethylthiourea,DMTU)预处理水稻幼根能明显降低PEG胁迫下水稻幼根过氧化氢的含量,缓解细胞死亡和相对含水量的降低,但对水稻根的生长影响较小。在PEG胁迫下,用1mmol·L-1水杨基氧肟酸(交替氧化酶专一性抑制剂,salicylhydroxamic acid,SHAM)预处理水稻幼根能显著降低水稻幼根的生长和相对含水量,并增加水稻幼根的过氧化氢含量和细胞的死亡程度。这说明DMTU能缓解PEG胁迫对水稻根系伤害,而SHAM加剧了PEG胁迫对水稻根系伤害。
- 冯汉青李芳管冬冬贾凌云
- 关键词：过氧化氢抗氰呼吸水稻渗透胁迫
- 不同光强下交替氧化酶基因修饰的两种拟南芥叶片叶绿素荧光特性的变化被引量：3
- 2013年
- 采用叶绿素荧光测定系统,研究在不同光强下交替氧化酶(alternative oxidase;AOX)基因超表达突变体(XX-2)和野生型(WT)拟南芥(Arabidopsis thaliana)叶片的叶绿素荧光参数的变化。结果表明:两种拟南芥叶片的最大光化学效率(Fv/Fm)没有显著差别;而不同光强下两种拟南芥叶片的实际光量子效率(Y(II))、光化学猝灭系数(qp)均随光照强度的增加呈下降趋势;同光强下XX-2叶片的上述参数均高于WT。非光化学猝灭系数(NPQ)与调节型能量耗散的量子产额(Y(NPQ))均随着光照强度的增加呈上升趋势;同光强下XX-2叶片的NPQ与Y(NPQ)均低于WT。非调节型能量耗散的量子产额(Y(NO))均随光照强度的增加呈下降趋势;当光强超过165μmol·m-2·s-1后,同光强下XX-2叶片的Y(NO)高于WT;表观电子传递速率(ETR)随着光照强度的增加均表现出先上升后下降的趋势;同光强下,XX-2叶片的ETR高于WT。以上结果表明,交替氧化酶超表达体在不同光照条件下具有更加优化的叶绿素荧光性能。
- 冯汉青汤淑珍李淮
- 关键词：拟南芥交替氧化酶叶绿素荧光参数不同光强
