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国家重点实验室开放基金(ZZKT200901)
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薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响
2012年
采用射频磁控溅射法在Si(100)基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
李雪
余忠
孙科
李金龙
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射频磁控溅射
薄膜厚度
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