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国家自然科学基金(51102013)

作品数:4 被引量:24H指数:3
相关作者:黑立富李成明吕反修陈广超刘杰更多>>
相关机构:北京科技大学中国科学院大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学化学工程更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇气相沉积
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 1篇单晶
  • 1篇调制周期
  • 1篇多层膜
  • 1篇英文
  • 1篇直喷
  • 1篇直喷式
  • 1篇生长速率
  • 1篇双极
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇外延层
  • 1篇脉冲反应
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多层膜
  • 1篇纳米金刚石薄...
  • 1篇金刚石
  • 1篇金刚石薄膜

机构

  • 4篇北京科技大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 4篇吕反修
  • 4篇李成明
  • 4篇黑立富
  • 3篇唐伟忠
  • 3篇刘杰
  • 3篇陈广超
  • 2篇宋建华
  • 1篇徐俊波
  • 1篇陈良贤

传媒

  • 1篇新型炭材料
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇材料工程
  • 1篇热处理

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 1篇2012
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
贫氢富氩气氛下超纳米金刚石薄膜的生长(英文)被引量:6
2013年
利用微波等离子气相沉积法在5%~20%的氢气浓度下,制备出了超纳米金刚石薄膜(UNCD)。利用扫描电子显微镜、XRD、表面轮廓仪及拉曼光谱研究了氢气浓度对超纳米金刚石薄膜的微结构、形貌、以及相组成的影响。结果表明,随着氢气浓度的增加,晶粒粒径及粗糙度都明显增加变大;在不大于10%的氢气浓度气氛下,可以发现晶粒粒径下降到6nm,甚至更低;即便氢气浓度达到20%,晶粒粒径仍然小于10 nm。讨论了在富氩气氛下沉积的UNCD的实验结果以及沉积机制。这种极其光滑的UNCD薄膜有望在医疗,声表面波器件以及微机电系统,尤其是在重载和恶劣环境下作为超级密封材料的应用。
刘杰黑立富陈广超李成明唐伟忠吕反修
CVD金刚石大单晶外延生长及高技术应用前景被引量:14
2013年
CVD(化学气相沉积)金刚石大单晶生长是CVD金刚石膜研究领域在过去十余年中所取得的重大技术进展之一,在一系列高新技术领域有极其重要的应用前景。针对CVD金刚石大单晶的制备和应用进行了综述。首先对CVD金刚石大单晶生长技术进行了概括性的描述,然后对CVD金刚石单晶制备方法进行详细介绍和评述。并对CVD大单晶在高性能辐射(粒子)探测器、金刚石高温半导体器件、高压物理试验、超精密加工以及在首饰钻戒等方面的应用现状与前景进行了介绍与评述。最后针对CVD高仿钻戒与天然钻戒的鉴别进行了评述,并提出了新的建议。
吕反修黑立富刘杰宋建华李成明唐伟忠陈广超
非对称双极脉冲反应磁控溅射制备TiN/NbN多层膜被引量:4
2012年
采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN/NbN纳米多层膜,利用X射线衍射分析(XRD)、纳米压痕仪、扫描电子显微镜(SEM)表征了薄膜的微观结构、力学性能和断口形貌。结果表明,在调制周期为19.86nm时,纳米压痕硬度达到43GPa。利用三点弯曲法形成裂纹的扩展,并观察到了裂纹的偏转特征。
黑立富徐俊波陈良贤李成明吕反修
关键词:纳米多层膜调制周期
直喷式直流电弧等离子化学气相沉积法金刚石单晶外延层制备研究
2014年
采用非循环直流喷射(直喷式)直流电弧等离子化学气相沉积法,在Ar/H2/CH4气氛下,成功制备了金刚石单晶外延层。试验采用的是3 mm×3 mm×1.2 mm的高温高压Ib型金刚石单晶衬底。研究了不同衬底温度和甲烷浓度对金刚石单晶外延层的形貌,速率和晶体质量的影响。采用光学显微镜,激光共聚焦表征了样品的形貌,利用千分尺测量其生长速率,利用Raman表征其晶体质量,采用OES诊断Ar/H2/CH4等离子气氛下C2、CH与Hβ的相对浓度。研究表明,温度和甲烷浓度对单晶刚石形貌和质量产生了明显的影响。在衬底为温度980℃,甲烷浓度在1.5%的条件下,生长速率达到了36μm/h,并且晶体质量较好(半高宽仅为1.88 cm-1)。同时发现生长参数对金刚石单晶外延层的生长模式有着显著地影响。
刘杰黑立富陈广超李成明宋建华唐伟忠吕反修
关键词:金刚石单晶外延层衬底温度生长速率
共1页<1>
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