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国家高技术研究发展计划(2009AA03Z341)

作品数:6 被引量:9H指数:1
相关作者:胡松唐小萍朱江平唐燕周绍林更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院研究生院电子科技大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 6篇中文期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇理学
  • 2篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...

主题

  • 2篇光刻
  • 2篇SIMULI...
  • 1篇电机
  • 1篇叠合
  • 1篇叠栅条纹
  • 1篇掩模
  • 1篇直线电机
  • 1篇双直线电机
  • 1篇条纹
  • 1篇图形发生器
  • 1篇无掩模
  • 1篇无掩模光刻
  • 1篇离焦量
  • 1篇模糊PID
  • 1篇模糊PID控...
  • 1篇纳米
  • 1篇角位移
  • 1篇光刻机
  • 1篇光学
  • 1篇光栅

机构

  • 6篇中国科学院
  • 6篇中国科学院研...
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 5篇胡松
  • 3篇唐小萍
  • 2篇周绍林
  • 2篇徐锋
  • 2篇谢飞
  • 2篇唐燕
  • 2篇严伟
  • 2篇朱江平
  • 1篇于军胜
  • 1篇陈铭勇
  • 1篇杨勇
  • 1篇徐文祥
  • 1篇李金龙
  • 1篇李兰兰
  • 1篇徐峰
  • 1篇盛壮
  • 1篇张博
  • 1篇唐路路

传媒

  • 2篇光学学报
  • 2篇微纳电子技术
  • 1篇中国激光
  • 1篇计算机应用

年份

  • 3篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
基于模糊PID的光刻机同步扫描控制被引量:1
2011年
基于模糊PID控制理论,介绍了步进扫描光刻机中工件台同步扫描的控制方法,并简要介绍了相关的控制理论基础知识,详细阐述了模糊控制器的制作过程和模糊规则的制定方法。另外针对同步扫描控制的难点,简要介绍了步进扫描光刻机的同步扫描过程,而且建立了同步运动的执行器直线电机的仿真模型。采用模糊PID理论对同步扫描系统进行控制策略研究,仿真实验表明,硅片台稳态误差及掩膜台稳态误差能够快速衰减达到稳定状态,而同步误差的精度也能达到微米级别。这种方案具有较好的动态特性及鲁棒性,同步误差较小,有望满足高精度同步扫描的要求。
盛壮唐小萍胡松李兰兰谢飞李金龙徐锋
关键词:双直线电机模糊PID控制SIMULINK光刻
光刻对准中干涉条纹相位解析研究被引量:1
2012年
针对光刻对准中双光栅产生的具有多频率的干涉条纹,提出了一种基于二维解析小波变换进行条纹分析的方法。该方法首先通过二维小波变换的多尺度对条纹的多频率进行分析,并通过解析小波基函数将条纹的幅度与相位进行分离,最终通过二维小波脊方法提取出与偏移量相关的相位。在相位提取的同时通过二维小波脊所处点的角度分布来移除封闭条纹处理中常见的相位符号不确定性。数值模拟与实验验证了该方法的可行性并与传统的基于频域的相位分析方法进行了对比分析。结果表明,该方法能在获得所需相位信息的同时较好地滤除掉由光路抖动引起的噪声,具有很强的适应性。
徐锋胡松周绍林徐文祥
一种数字光栅无掩模光刻对准方法被引量:1
2012年
针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统,提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法,将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型,设计了对准标记以及具体的实现方案,并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明,采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅,真正实现了零掩模成本;并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围,减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度,满足目前无掩模光刻对准精度的要求。
唐路路胡松徐峰唐燕陈铭勇朱江平
关键词:光栅无掩模光刻
纳米检焦中双相锁相放大器的Simulink建模与仿真被引量:1
2010年
针对纳米量级实时检焦技术中光电探测器输出的微弱电信号,提出利用双相锁相放大原理对该信号进行在线检测、放大、滤波及解调,经过一系列处理后得到硅片的实时离焦量,以确定其是否在有效焦深范围内,保证曝光质量。主要利用Matlab的Simulink工具包对这一方案的可行性进行了仿真验证。从仿真结果可以看出,基于双相锁相放大器的双相锁相放大技术能够很好地提取出硅片离焦量信号,且无需依赖移相器。该方法相对传统方法而言,能够更精确地获取硅片离焦量,有利于大幅度提高检焦精度,同时也为今后的实用化奠定了理论基础。
谢飞唐小萍胡松严伟
关键词:SIMULINK离焦量
基于叠栅条纹的光刻对准理论分析及标定方法被引量:5
2012年
在线光栅用于纳米光刻对准理论的基础上,为实现光栅方向的标定和掩模硅片对准,提出一种利用相位斜率消除角位移的新方法,并给出线光栅标记及其对准原理。在对准前,掩模对准标记和硅片对准标记存在角位移,重点讨论了此种情况下叠栅条纹的特性以及与光栅物理参数的关系,并给出了相应的计算公式。基于傅里叶频域分析法,对叠栅条纹频率成分与条纹的关系做了简要分析。利用提取叠栅条纹行列方向的一维相位,通过数据拟合,得出了相位斜率与角位移的内在关系,实现了条纹方向的标定。模拟实验结果表明,该方法简单可靠,可分辨的最小角位移低于0.02°。
朱江平胡松于军胜唐燕周绍林
关键词:傅里叶光学角位移叠栅条纹
图形发生器中新的子区域划分表示及叠合算法
2009年
为实现直写曝光机中图形发生器的软件功能模块,系统地给出了一种多边形的双向链接边表的表示方法及高效的平面子区域划分的叠合算法。该算法以计算几何中常用的平面扫描算法为基础,对叠合过程中出现的各种情况,给出了通用的处理方法,针对多边形中出现空洞的情况,提出了一种判别准则和基于图的重构的遍历搜索方法。根据分析,该算法的时间复杂度含有对数因子,优于传统的二次项复杂度,并且具有线性的空间复杂度。由于双向链接边表的数据结构主要由指针和链表组成,所以易于在计算机中实现。
张博唐小萍杨勇严伟
关键词:叠合
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