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国家科技重大专项(2009ZX02037-003)

作品数:3 被引量:8H指数:2
相关作者:饶志鹏夏洋李超波董亚斌张阳更多>>
相关机构:中国科学院微电子研究所哈尔滨理工大学更多>>
发文基金:国家科技重大专项中国博士后科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇原子层沉积
  • 2篇原位掺杂
  • 2篇掺杂
  • 1篇等离子体
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇氧化锌
  • 1篇原位
  • 1篇增强型
  • 1篇体源
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化剂
  • 1篇ZN
  • 1篇ZNO
  • 1篇催化
  • 1篇催化剂
  • 1篇O

机构

  • 3篇中国科学院微...
  • 1篇哈尔滨理工大...

作者

  • 3篇饶志鹏
  • 2篇李超波
  • 2篇夏洋
  • 1篇叶甜春
  • 1篇张祥
  • 1篇万军
  • 1篇于明岩
  • 1篇卢维尔
  • 1篇冯嘉恒
  • 1篇施云波
  • 1篇张阳
  • 1篇董亚斌

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
PEALD原位掺杂制备纳米TiO2-xNx光催化剂被引量:3
2013年
采用等离子体增强型原子层沉积(PEALD)系统原位掺杂制备了TiO2-xNx光催化剂。利用光电子能谱(XPS)、高分辨率透射电镜(HRTEM)、光致发光(PL)光谱和紫外–可见光(UV-Vis)光谱对催化剂进行了表征,并研究了TiO2-xNx纳米薄膜在可见光照射下水接触角的变化和催化降解亚甲基橙(MO)溶液的性能。结果表明,等离子体功率变化可以改变掺入氮原子的结构,在功率为50 W时主要形成替换式氮原子,含量约为1.22at%,晶体为锐钛矿(101)型。结构无明显缺陷,且掺杂后TiO2-xNx薄膜光生电子–空穴对复合率低,有利于光催化效率的提高。该方法解决了传统ALD工艺制备TiO2-xNx光催化剂时容易形成氧空位的问题,实现了TiO2-xNx纳米材料的可见光(λ<800 nm)吸收和可见光光催化性能。
饶志鹏万军冯嘉恒李超波夏洋
关键词:原位光催化剂
原子层沉积技术及其创新运用被引量:2
2014年
本文分析并总结了涉及原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)技术基本原理的若干问题.介绍了等离子增强原子层沉积(plasma enhanced atomic layer deposition,PEALD)技术的优势及常见运用.相对于传统ALD系统,PEALD最大的特点在于其能够通过等离子体放电来活化前驱体源,提高对前驱体源,尤其是气态源的利用.利用PEALD这一特点可以增加传统ALD技术中可用氮源的种类.同时PEALD原位掺杂作为一种掺杂方法能够用于对光催化材料的掺杂改性,提高其光催化性能.此外,PEALD技术还适用于温度敏感材料和柔性材料上的薄膜沉积,可以获得更低的电阻率和更高的薄膜密度等.本文重点介绍了本课题组提出的PEALD原位掺杂技术及其对TiO2光催化剂的掺杂改性运用.最后对原位掺杂技术的研究方向和发展进行了展望.
施云波于明岩饶志鹏赵士瑞
关键词:原子层沉积原位掺杂
原子层沉积法生长ZnO的性质与前驱体源量的关系研究被引量:3
2013年
介绍了新型材料ZnO的各项性能,并采用原子层沉积方法制备新型材料ZnO.实验中采用二乙基锌(DEZn)和水作为生长ZnO的前驱体源,在蓝宝石衬底上生长ZnO;采用氮气作为载气,生长温度为180℃.通过改变在实验中的通入锌源的时间,探索不同的DEZn的源的量对薄膜的成分(Zn/O)、薄膜的厚度、生长速率、晶型、表面形貌、三维形貌以及粗糙度的影响.
董亚斌夏洋李超波卢维尔饶志鹏张阳张祥叶甜春
关键词:氧化锌原子层沉积ZNO
共1页<1>
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