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国家重点基础研究发展计划(2009CB724202)

作品数:7 被引量:23H指数:2
相关作者:丁玉成刘红忠邵金友田洪淼李欣更多>>
相关机构:西安交通大学山东大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金山东省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术机械工程理学更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 3篇一般工业技术
  • 2篇机械工程
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 3篇纳米
  • 3篇纳米压印
  • 2篇电场诱导
  • 2篇电流
  • 2篇电流体动力学
  • 2篇体动力学
  • 2篇流体动力学
  • 1篇电池
  • 1篇电路
  • 1篇电驱动
  • 1篇动网格
  • 1篇动网格技术
  • 1篇压印光刻
  • 1篇阳极
  • 1篇数值仿真
  • 1篇太阳能
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇图案化
  • 1篇图形化
  • 1篇微结构

机构

  • 5篇西安交通大学
  • 1篇山东大学

作者

  • 5篇丁玉成
  • 3篇田洪淼
  • 3篇刘红忠
  • 3篇邵金友
  • 2篇李欣
  • 2篇李祥明
  • 1篇兰红波
  • 1篇卢秉恒
  • 1篇尹磊
  • 1篇连芩

传媒

  • 1篇机械工程学报
  • 1篇西安交通大学...
  • 1篇中国基础科学
  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇纳米技术与精...
  • 1篇功能材料信息
  • 1篇Engine...

年份

  • 3篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
  • 2篇2009
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
TiO_2光阳极有序微结构的纳米压印工艺
2009年
提出一种以常温紫外固化纳米压印技术实现定制化微结构TiO2纳米晶岛薄膜制备的工艺,用于制备垂直于透明导电基底的TiO2薄膜光阳极.混合TiO2粉体、分散剂、乳化剂、酒精和光固化树脂等,制备可紫外光固化的TiO2溶胶,并经步进压印形成宽度为3μm的具有离散纳米晶岛微结构的薄膜,经保压复型优化压印工艺后处理,保证了离散纳米晶岛微结构的高保真度.经600℃烧结去除薄膜中的掺杂物,退火至450℃后获得了定制化微特征的锐钛矿型TiO2半导体薄膜.在N719染料敏化条件下,制备出了定制化微结构光阳极的染料敏化太阳能电池.AM1.5(0.1W/cm2)光照条件下的测试实验结果表明,该电池的光电转化效率可达2.7%.此工艺有望应用于制备高稳定性固态或准固态电解质染料敏化太阳能电池.
连芩刘红忠丁玉成尹磊
关键词:纳米压印光阳极太阳能电池
电场诱导微结构图形化形成机理及常温制备工艺被引量:6
2010年
利用液体薄膜表面热扰动造成的表面张力失稳特性,提出一种常温条件下的非接触式电场诱导聚合物图形化技术.采用Navier-Stokes方程和线性稳定分析理论建立了薄膜流体的电场诱导力学模型,阐明了电场诱导过程中微结构的形成机理和周期特性,并详细分析了微结构的成长因数.采用低黏度紫外光固化型聚合物作为图形化材料,在常温条件进行了电场诱导成形实验研究,实验结果证明了电场诱导成形在常温条件下应用于紫外光固化型聚合物的可行性.在导电的掺杂硅片基底上以匀胶方式制备0.8μm厚的紫外光固化型聚合物薄膜,使用平整的导电玻璃作为无图形模板.在基底和模板间施加25 V的直流电压进行电场诱导成形实验,获得了平均中心间距为37.6μm,平均直径为24.8μm的大面积周期性柱状结构.将基底和模板间的电压提高至30 V,周期性柱状结构的中心间距降低为30.8μm,平均直径降低为18.5μm.另外,采用理论模型对诱导成形过程中的诱导时间、成形特点和图型特征等要素进行了详细的分析,并提出了获得高精度、快速电场诱导图形化的工艺参数优化方案.
李欣邵金友田洪淼刘红忠丁玉成
关键词:常温微结构
Electrically induced nanostructuring over large area——a new idea from concept to practice
2013年
The paper proposes a novel nano-patterning method called electrically induced nanostructuring,where an external electric field,insteadof the external mechanical pressure,is applied to generate an electrohydrodynamic force acting on the polymer-air interface to drive the polymer's flow into the mold cavities. This electrically induced nanostructuring method no longer requires a large mechanical pressure externally applied for actuating the polymer filling in the mold cavities,and has been used to successfully fabricate micro/nano pillar arrays of a high aspect ratio (up to 10),which have been usually considered to be"difficult to fabricate"by conventional molding or nanoimprinting processes.
Li XiangmingDing YuchengShao JinyouLiu Hongzhong
关键词:纳米压印图案化
基于电流体动力学的电驱动纳米模塑技术被引量:1
2013年
目前,作为集成电路以及纳米加工主流工艺的光学光刻技术,由于其受到光学衍射极限的物理限制,在16nm线宽及其以下节点的结构制造中,其技术复杂性和设备制造成本大大增加。纳米压印作为一种高分辨率、高效率、低成本和操作过程简单的技术,引起了各国研究人员的广泛关注。然而纳米压印中不可避免引入的机械压力又会引发纳米结构几何变形、变尺寸结构填充不均匀等问题。本项目针对常规纳米压印存在的问题,基于介电聚合物的电流体动力学行为研究,提出了利用电场力替代机械力的电驱动模塑技术,在保持纳米压印突出优势的前提下,克服或避免了机械压力引发的技术性难题,成功实现了15nm节点结构的高保真复型以及深宽比8的大深宽比纳米结构成型。
丁玉成邵金友田洪淼李祥明
关键词:集成电路
纳米压印光刻模具制作技术研究进展及其发展趋势被引量:17
2009年
模具是纳米压印光刻(Nanoimprint lithography,NIL)与传统光学光刻工艺最大的区别所在,模具作为压印特征的初始载体直接决定着压印图型的质量,要实现高质量的压印复型,必须要有高质量的压印模具。不同于传统光学光刻使用的掩模(4X),纳米压印光刻使用的是1X模版,它在模具制作、检查和修复技术面临更大挑战。当前,模具的制作已经成为NIL最大的技术瓶颈,而且随着纳米压印光刻研究的日益深入以及应用领域的不断扩大,NIL模具的制造将变的越来越重要并面临着更加严峻的挑战。因此,模具的制造已经成为当前纳米压印光刻一个最重要的研究热点,纳米压印光刻发展的历史也是压印模具不断发展创新的历史。综述了当前国内外各种纳米压印光刻模具制作技术研究进展,并指出三维模具、大面积模具和高分辨率模具的制作、模具缺陷的检查和修复是当前及其将来最迫切的需求、最主要的研究热点和挑战。
兰红波丁玉成刘红忠卢秉恒
关键词:纳米压印光刻
Application of printed nanocrystalline diamond film for electron emission cathode
2013年
The low-cost and large area screen-printed nano-diamond film (NDF) for electronic emission was fabricated. The edges and corners of nanocrystalline diamond are natural field-emitters. The nano-diamond paste for screen-printing was fabricated of mixing nano-graphite and other inorganic or organic vehicles. Through enough disperse in isopropyl alcohol by ultrasonic nano-diamond paste was screen-printed on the substrates to form NDF. SEM images showed that the surface morphology of NDF was improved, and the nano-diamond emitters were exposed from NDF through the special thermal-sintering technique and post-treatment process. The field emission characteristics of NDF were measured under -6 all conditions with 10 Pa pressure. The results indicated that the field emission stability and emission uniformity of NDF were improved through hydrogen plasma post-treatment process. The turn-on field decreased from 1.60 V/ μm to 1.25 V/ μm . The screen-printed NDF can be applied to the displays electronic emission cathode for low-cost outdoor in large area.
张秀霞Shuyi WeiChongmin LeiJie weiBingheng LuYucheng DingChangchun Zhu
关键词:编辑部
数值分析电诱导流变成型技术外部因素的影响被引量:1
2012年
电场诱导聚合物流变成型作为一种新型的利用外部电场实现微纳米复型的技术得到越来越多的关注。为了深入理解复型本质与影响因素,提出了电流体动力学(EHD)理论与动网格方法耦合的模型,从数值模拟角度研究了电场诱导聚合物流变成型过程中电场分布与诱导结构之间的关系,仿真分析了在此过程中各外部因素(电压、空气间隙与膜厚)对复型结构的影响。仿真结果表明,初始时刻聚合物薄膜表面的电场分布在复型过程中起决定性作用;同时,合理地调节施加电压,模板与聚合物薄膜间的空气间隙以及聚合物薄膜厚度都可以有效提高复型结构的质量。
田洪淼邵金友丁玉成李欣李祥明
关键词:电流体动力学动网格技术数值仿真
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