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国家高技术研究发展计划(2009AA03Z407)

作品数:7 被引量:8H指数:1
相关作者:李美成赵连城孙伟峰孙伟峰郑晓霞更多>>
相关机构:哈尔滨工业大学哈尔滨理工大学黑龙江工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇中文期刊文章

领域

  • 6篇理学
  • 2篇机械工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇半导体
  • 3篇超晶格
  • 2篇导体
  • 2篇第一性原理
  • 2篇第一性原理研...
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米线
  • 2篇INAS/G...
  • 2篇INAS/G...
  • 1篇带隙
  • 1篇电离
  • 1篇电子-声子相...
  • 1篇电子-声子耦...
  • 1篇异质结
  • 1篇声子
  • 1篇声子耦合
  • 1篇碰撞电离
  • 1篇品格
  • 1篇相干
  • 1篇量子

机构

  • 4篇哈尔滨工业大...
  • 2篇哈尔滨理工大...
  • 2篇黑龙江工程学...
  • 1篇华北电力大学

作者

  • 4篇李美成
  • 3篇孙伟峰
  • 3篇赵连城
  • 2篇郑晓霞
  • 2篇孙伟峰
  • 1篇熊敏

传媒

  • 5篇物理学报
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇Scienc...

年份

  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 4篇2010
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
InSb缓冲层的波纹结构及其对InSb/GaAs外延薄膜电学性能的影响
2011年
采用分子束外延方法在GaAs(001)衬底上生长了InSb外延薄膜,其中采用"二步法"制备了不同厚度的低温InSb缓冲层结构。利用Mullins扩散模型对缓冲层的生长过程进行了具体演化。结合扩散模型的计算结果,通过原子力显微镜以及透射电子显微镜研究了InSb缓冲层表面的波纹结构对后续InSb薄膜生长的影响规律。研究表明,适当的缓冲层厚度有利于InSb薄膜的外延生长,缓冲层厚度超过60 nm后,InSb薄膜表面的粗糙度明显增加,引人了大量位错导致外延薄膜的电性能下降,采用"二步法"生长30~50 nm厚的InSb缓冲层比较合适。
熊敏李美成
关键词:INSB薄膜分子束外延
Suppressing the multimodal size distribution of InAs/GaAs quantum dots through flattening the surface fluctuation被引量:1
2010年
A method of suppressing the multimodal size distribution of InAs/GaAs quantum dots(QDs) using molecular beam epitaxy through flattening the substrate surface is reported in this work.It is found that the surface roughness plays an important role in the growth of QDs through continuous surface evolution(SEQDs).SEQDs are the main components of small QD ensemble in QDs with multimodal size distribution.It is suggested that most of the SEQDs are very likely to nucleate during the growth interruption rather than during the deposition.The growth of QDs on a smoother surface has largely reduced the density of SEQDs.The photoluminescence line width of uniform QDs is found to be only 17 meV at a low temperature.
WANG Lu1,2,LI MeiCheng1,WANG WenXin2,GAO HanChao2,TIAN HaiTao2,XIONG Min1 & ZHAO LianCheng1 1 School of Material Science and Technology,Harbin Institute of Technology,Harbin 150001,China
关键词:DOTSMULTIMODALSURFACEFLUCTUATION
窄带隙超晶格中载流子俄歇寿命和碰撞电离率的第一性原理研究被引量:1
2010年
通过第一性原理的完整形式,基于全势能线性化增广平面波方法确定的精确能带结构和波函数,推算了技术上极为重要的窄带隙半导体超晶格中载流子俄歇复合时间.少数载流子的俄歇寿命由两种相关的方法来确定:1)由Fermi-金规则直接估算,2)联系俄歇复合和其相反过程碰撞电离,建立细致平衡公式,在一个统一的结构中进行间接估算.在n掺杂HgTe/CdTe和InAs/InxGa1-xSb超晶格中,由直接和间接的方法确定的寿命与一些实验结果相当一致.这说明该计算模式可以作为一种精确的手段用于窄带隙超晶格材料的性能优化.
孙伟峰李美成赵连城
关键词:第一性原理碰撞电离半导体超晶格
低维半导体异质结中的量子相干红外发射机理理论研究被引量:1
2010年
给出了一种在非粒子反转条件下量子阱和量子点激光器的红外发射机理.此种红外发射是基于在同一作用区产生并作为红外场相干源的两种带间跃迁激光场的共振非线性混合.这种频率下转换机理并不依赖于在半导体激活媒质中的长时相干假定条件,在室温和泵注入电流条件下仍然有效.频率下转换的固有效率可以达到相当于每个可见光子产生一个红外光子的量子极限值.根据红外发射的可参变特性,这种非粒子反转的方法尤其适用于长波红外工作范围.
孙伟峰李美成赵连城
关键词:半导体异质结量子相干
Ga和Sb纳米线声子结构和电子-声子相互作用的第一性原理研究被引量:1
2010年
基于密度泛函理论的第一性原理方法,系统研究了Ga和Sb纳米线的电子能带结构和声子结构以及电子-声子耦合(EPC)作用.通过对声子的完整Brillouin区分析来研究纳米线的结构稳定性.结果表明,所考察的纳米线显示出不稳定性,不稳定声子波矢远离Brillouin区中心.与通常的Peierls变形机理相比,不稳定的横向声子模会导致一种无开口带隙的相变.Sb比Ga纳米线的EPC要强很多,并且横向变形导致的锯齿形结构使纳米线中的电子-声子相互作用增加了几个数量级。
孙伟峰李美成赵连城
关键词:第一性原理纳米线电子-声子耦合
(InAs)1/(GaSb)1超品格纳线第一原理研究被引量:1
2012年
半导体纳米线作为纳米器件的作用区和连接部分具有理想的形状,把电子运动和原子周期性限制在一维结构当中.通过体材料的已知特性,有效地选择材料组分使纳米线的低维结构优点更加突出.此外,还可以通过其他方式来调整纳米线特性,如控制纳米线直径、晶体学生长方向、结构相、表面晶体学晶面和饱和度等内部或固有的特性;施加电场、磁场、热场和力场等外部影响.体材料InAs和GaSb的晶格常数非常相近,因此InAs/GaSb异质结构晶格失配很小,可生长成为优良的红外光电子材料.另外,体材料InAs在二元Ⅲ—Ⅴ化合物半导体中具有最低的有效质量,这使得电子限制在InAs层的InAs/GaSb超晶格具有良好的输运特性.本文通过第一原理计算研究轴线沿[001]和[111]闪锌矿晶体学方向的(InAs)_1/(GaSb)_1超晶格纳米线(下标表示分子或双原子单层的数量)的结构、电子和力学特性,以及它们随纳米线直径(线径约为0.5—2.0 nm)的变化规律.另外,分析了外部施加的应力对电子特性的影响,考察了不同线径(InAs)_1/(GaSb)_1超晶格纳米线的电子带边能级随轴向应变的变化,从而确定超晶格电子能带的带边变形势.
孙伟峰郑晓霞
关键词:INAS/GASB超晶格半导体纳米线
第一原理研究界面弛豫对InAs/GaSb超晶格界面结构、能带结构和光学性质的影响被引量:3
2012年
通过广义梯度近似的第一原理全电子相对论计算,研究了不同界面类型InAs/GaSb超晶格的界面结构、电子和光吸收特性.由于四原子界面的复杂性和低对称性,通过对InAs/GaSb超晶格进行电子总能量和应力最小化来确定弛豫界面的结构参数.计算了InSb,GaAs型界面和非特殊界面(二者交替)超晶格的能带结构和光吸收谱,考察了超晶格界面层原子发生弛豫的影响.为了证实能带结构的计算结果,用局域密度近似和Hartree-Fock泛函的平面波方法进行了计算.对不同界面类型InAs/GaSb超晶格的能带结构计算结果进行了比较,发现界面Sb原子的化学键和离子性对InAs/GaSb超晶格的界面结构、能带结构和光学特性起着至关重要的作用.
孙伟峰郑晓霞
关键词:INAS/GASB超晶格广义梯度近似
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