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长江学者和创新团队发展计划(IRT-0654)

作品数：1 被引量：27H指数：1
相关作者：杜莉娟吕慎水陈文兴姚玉元更多>>
相关机构：浙江理工大学更多>>
发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”长江学者和创新团队发展计划更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电磁屏蔽
  • 1篇电磁屏蔽性能
  • 1篇电磁屏蔽织物
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇织物
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇屏蔽织物
  • 1篇面电阻
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇表面电阻
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇浙江理工大学

作者

  • 1篇姚玉元
  • 1篇陈文兴
  • 1篇吕慎水
  • 1篇杜莉娟

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控溅射法制备电磁屏蔽织物的研究被引量：27
2007年
本文采用直流磁控溅射在无纺布基底上溅射沉积金属铜来制备电磁屏蔽织物。通过原子力显微镜观察发现,工艺参数对溅射沉积速率以及膜层的表面形貌都有较大的影响。在一定范围内,溅射功率越大,沉积速率越大,膜层颗粒分布越均匀致密。溅射压力一般选取0.9 Pa左右为宜,在此压力下,溅射沉积速率最大。经测试膜层与基底结合牢度较好,溅射沉积铜后透气性变化较小。频谱分析仪测试结果表明织物的屏蔽性能十分优良。
陈文兴杜莉娟姚玉元吕慎水
关键词：直流磁控溅射原子力显微镜表面电阻电磁屏蔽性能
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