国防科技工业技术基础科研项目(426020402)
- 作品数：2 被引量：2H指数：1
- 相关作者：刘进刘军管永红施将君张绚更多>>
- 相关机构：中国工程物理研究院西南计算中心更多>>
- 发文基金：国防科技工业技术基础科研项目更多>>
- 相关领域：医药卫生理学机械工程更多>>
- 高能辐射照相中屏片系统的响应特性
- 2009年
- 为了获得更高的底片图像空间分辨率,在"屏片"图像接收系统成像原理的基础上,讨论了薄介质中能量沉积的模拟方法。针对实际照相模型,研究了直穿光子和散射光子在"屏片"系统中的响应特性。结果表明,对于"屏片"系统,金属增感屏出射面的电子通量是决定X射线能量转换效率的主要因素。适当增加金属增感屏的厚度,有助于降低散射的影响,但也在一定程度上增加了图像本底。当金属增感屏厚度为0.4 mm左右时,金属增感屏对直穿光子的局部增感效果最好。
- 刘军杨光志刘进
- 关键词：点扩展函数
- 闪光照相中散射分布均匀性的影响因素被引量：2
- 2009年
- 为了在客体密度重建过程中采用迭代法扣除散射X射线的影响,提出了以散射分布均匀为主要目的的闪光照相系统设计思想。在介绍散射分布均匀性定义的基础上,分析了均匀扣除散射所带来的光程差。采用蒙特卡罗方法研究了系统放大倍数、照相距离以及后防护锥到图像接收系统的距离对散射分布均匀性的影响。结果表明:后防护锥到图像接收系统的距离是影响散射分布形状和散射照射量大小的一个主要因素;当后防护锥到图像接收系统的距离为55cm左右时,散射分布均匀性近似最佳,而且照相距离越大,散射分布均匀性越好。这些研究结果可用于实际闪光照相系统的优化设计,在图像接收系统的响应范围内达到使散射分布均匀和降低光源模糊影响的目的。
- 刘军张绚刘进施将君刘瑞根管永红肖智强
- 关键词：散射均匀性蒙特卡罗模拟
