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云南省科技厅科研基金(KKSY201251089)

作品数:3 被引量:11H指数:2
相关作者:郑必举胡文更多>>
相关机构:昆明理工大学更多>>
发文基金:云南省科技厅科研基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇脉冲激光
  • 2篇透明导电
  • 2篇透明导电氧化...
  • 2篇脉冲激光沉积
  • 2篇CDO
  • 1篇电性能
  • 1篇电性能研究
  • 1篇性能研究
  • 1篇氧化镉
  • 1篇熔覆
  • 1篇显微硬度
  • 1篇脉冲
  • 1篇镁合金
  • 1篇镁合金表面
  • 1篇激光
  • 1篇激光熔覆
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇合金
  • 1篇合金表面

机构

  • 3篇昆明理工大学

作者

  • 3篇胡文
  • 3篇郑必举

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇功能材料
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2013
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
ZnO/CdO复合薄膜的制备及其性能研究被引量:4
2013年
通过脉冲激光沉积法首次制备了ZnO/CdO复合薄膜。采用X射线衍射、光致发光和电阻率测量分析了薄膜的结构、光学和电学性能。光致发光谱表明所有ZnO/CdO复合薄膜都具有相同的PL发光峰,保持了未掺杂ZnO的发光特性。同时,复合薄膜的电阻率大大地下降了几个数量级,接近了纯CdO薄膜的电阻率。这可以用Matthiessen公式来解释。与传统掺杂方法相比,制备的ZnO/CdO复合薄膜可同时具有ZnO的发光特性和CdO的电学特性,从而获得单一TCO材料所不具备的性能,满足某些特殊需求。
郑必举胡文
关键词:脉冲激光沉积透明导电氧化物光致发光
激光熔覆Al+SiC涂层对镁合金表面耐磨性能的改性被引量:6
2014年
通过脉冲激光器(Nd—YAG)在AZglD镁合金基底上熔覆A1+SiC粉体。采用扫描电子显微镜、能量色散谱(EDS)和x-射线衍射测定分析熔覆层的显微组织、化学成分和物相组成。研究表明:A1+SiC涂层主要由SiC,β-Mg17Al12及Mg和Al相组成,激光熔覆层与镁合金基底表现出良好的冶金结合。所有样品都具有树枝状结构,且随着SiC质量分数的增大,树枝状和胞状结构的间隔变得更大。熔覆涂层的表面硬度高于基底,并且随着熔覆层中的SiC质量分数的增加而增大,SiC质量分数为40%的熔覆层具有最大的显微硬度,达到180HV,然而质量分数为10%的熔覆层硬度为136HV。销盘滑动磨损试验表明,复合涂层中的SiC颗粒和原位合成的Mg17A112相显著提高了AZ91D镁合金的耐磨损性,其中,SiC质量分数从10%增加到30%过程中磨损体积损失逐渐减少,SiC质量分数在20Voo~30%时熔覆层具有最好的耐磨性。
郑必举胡文
关键词:脉冲激光镁合金激光熔覆显微硬度
Sn掺杂CdO透明导电薄膜的制备和光电性能研究被引量:1
2013年
通过脉冲激光法在石英玻璃基底上沉积了锡掺杂氧化镉(Sn-CdO)透明导电薄膜。X射线衍射,分光光度计和霍尔效应仪检测了薄膜的结构、光学和电学性能。结果表明Sn的掺杂提高了薄膜[111]方向的择优生长,而且促使了(200)晶面衍射角增大。Sn-CdO薄膜的光学禁带宽度随着Sn掺杂含量的增加而变宽。另外,适量的Sn掺杂可以明显改善CdO薄膜的电学性能,比如2.9 at%Sn掺杂CdO薄膜的电阻率是未掺杂薄膜的十二分之一,载流子浓度是未掺杂的十三倍。因而光学和电学性能的改良使得Sn-CdO薄膜作为透明导电材料具有重要的应用价值。
郑必举胡文
关键词:氧化镉脉冲激光沉积透明导电氧化物
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