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中国博士后科学基金(2013M531986)

作品数:2 被引量:9H指数:2
相关作者:张家敏易健宏甘国友刘意春杜景红更多>>
相关机构:昆明理工大学昆明贵金属研究所更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 1篇电沉积
  • 1篇电接触
  • 1篇电接触材料
  • 1篇银氧化锡
  • 1篇银氧化锡电接...
  • 1篇英文
  • 1篇硅基
  • 1篇硅基底
  • 1篇AGSNO2
  • 1篇磁性能

机构

  • 2篇昆明理工大学
  • 1篇昆明贵金属研...

作者

  • 2篇严继康
  • 2篇杜景红
  • 2篇刘意春
  • 2篇甘国友
  • 2篇易健宏
  • 2篇张家敏
  • 1篇谢明

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇材料导报

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
银氧化锡电接触材料的制备方法概述被引量:7
2013年
从抗电弧侵蚀性、抗熔焊性、接触电阻、力学性能4方面分析了AgSnO2作为电接触材料的性能特点。阐述了AgSnO2电接触材料不同制备方法的基本原理和特点,主要包括合金内氧化法、粉末冶金法和反应合成法,并从常规制备方法的改进和新型制备工艺的开发这两个角度对AgSnO2电接触材料制备方法的发展动态进行了综述和展望。
刘意春谢明张家敏严继康杜景红甘国友易健宏
关键词:AGSNO2电接触材料
Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究(英文)被引量:2
2014年
在n-型Si片(100)面上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜,并对电沉积过程特征及薄膜的结构和性能进行了研究。当阴极电流密度高于1.0 A/dm2时,可获得连续致密的合金薄膜,且电沉积表现为异常共沉积过程。在1.0~4.0 A/dm2范围内改变电流密度可调控合金薄膜的Ni质量分数从45%到78%之间改变,对应的电流效率在60%到66%之间变动。从XRD和TEM结果来看,合金薄膜由尺寸为10~30nm的纳米晶粒组成,且表现为Fe-Ni面心立方固溶体结构。合金薄膜的磁滞回线表现出较高的饱和磁化强度和接近于零的矫顽力,表明该种纳米合金薄膜具有很好的软磁性能。
刘意春张家敏严继康杜景红甘国友易健宏
关键词:电沉积硅基底磁性能
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