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浙江省自然科学基金(Y104494)

作品数:2 被引量:5H指数:2
相关作者:吕冰海周兆忠赵文宏袁巨龙许秦更多>>
相关机构:浙江工业大学湖南大学更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 1篇修整
  • 1篇田口方法
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光

机构

  • 2篇浙江工业大学
  • 1篇湖南大学

作者

  • 2篇周兆忠
  • 2篇吕冰海
  • 1篇许秦
  • 1篇赵文宏
  • 1篇袁巨龙

传媒

  • 2篇新技术新工艺

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
硬质材料球体新型研磨方式下的工艺优化试验研究被引量:2
2008年
氮化硅先进陶瓷等硬质材料的球体具有密度小、硬度高、弹性模量高(刚度高)、耐磨损、热膨胀系数低等一系列金属材料没有的优点,被认为是高速、高精度轴承滚动体的最佳材料,但传统的V形槽陶瓷球研磨方式制约着其进一步应用。本文以材料去除率、表面粗糙度和球形误差为评价目标,通过试验研究与数据分析,描述新型研磨方式下,硬质材料球体研磨工艺参数对材料去除率、球度及表面粗糙度的影响,以获得较优的研磨工艺参数,为实际生产中工艺过程的优化提供了一种有效可行的方法。
许秦袁巨龙周兆忠吕冰海
关键词:田口方法
化学机械抛光过程中抛光垫修整的研究被引量:3
2007年
抛光垫是化学机械抛光(CMP)系统的重要组成部分,具有贮存、输送抛光液等作用,对晶片的去除率和平整度起着至关重要的作用。本文介绍和探讨了CMP过程中抛光垫修整对抛光垫表面结构以及对CMP过程影响规律。研究结果表明,抛光垫与晶片的接触面积、抛光速率、平坦化效果等都受到抛光垫修整的影响。大的修整深度能够获得较高的抛光去除率,而较小的修整深度则更有利于获得较好的平坦化效果。修整效果可以通过修整器的设计、修整工艺参数以及加工参数进行调整。
赵文宏周兆忠吕冰海
关键词:化学机械抛光抛光垫修整
共1页<1>
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