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国防科技技术预先研究基金(2000J1232DZ0219)

作品数:1 被引量:1H指数:1
相关作者:蒋洪川张金平杨仕清张勤勇张万里更多>>
相关机构:电子科技大学更多>>
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相关领域:一般工业技术电气工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇电镀
  • 2篇铁磁
  • 2篇铁磁耦合
  • 2篇NDCL3

机构

  • 2篇电子科技大学
  • 1篇华西大学

作者

  • 2篇张勤勇
  • 2篇蒋洪川
  • 1篇张万里
  • 1篇杨仕清
  • 1篇张金平

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 2篇2004
1 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响被引量:1
2004年
基于轻稀土元素-Nd与过渡金属元素-Co之间的铁磁耦合作用提高电镀CoNiMnP永磁薄膜阵列的磁性能,在电镀时引入稀土Nd元素进入CoNiMnP永磁薄膜阵列中,通过改变镀液中NdCl3的浓度而改变CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量.对镀液中NdCl3浓度与薄膜磁性能的关系进行了分析与测试,结果表明:室温下,在电流密度为5mA/cm2时,具有垂直各向异性的CoNdNiMnP永磁薄膜阵列被成功地电镀得到.随着NdCl3浓度的增加,薄膜的磁性能提高,当NdCl3浓度增加到0.25×103g/cm3时,薄膜的磁性能达到最大值,继续增加镀液中NdCl3浓度,薄膜阵列的磁性能不再增加.
张勤勇蒋洪川张万里张金平杨仕清
关键词:电镀铁磁耦合
NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响
基于轻稀土元素-Nd与过渡金属元素-Co之间的铁磁耦合作用提高电镀CoNiMnP永磁薄膜阵列的磁性能,在电镀时引入稀土Nd元素进入CoNiMnP永磁薄膜阵列中,通过改变镀液中NdCl3的浓度而改变CoNdNiMnP薄膜中...
张勤勇蒋洪川张万里张金平杨仕清
关键词:电镀铁磁耦合
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