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天津市科技攻关项目(06YFGPX08400)

作品数：1 被引量：1H指数：1
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电阻
  • 1篇电阻器
  • 1篇电阻温度系数
  • 1篇器用
  • 1篇金属膜电阻器
  • 1篇晶粒
  • 1篇晶粒细化
  • 1篇溅射
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇膜电阻器

机构

  • 1篇天津大学

作者

  • 1篇王秀宇
  • 1篇张之圣
  • 1篇刘志刚
  • 1篇白天
  • 1篇毕大鹏

传媒

  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
金属膜电阻器用高阻靶材制备工艺研究被引量：1
2009年
金属膜电阻器用的靶材是影响膜质量和电阻器性能的重要因素之一,晶粒细化是炼制致密性靶材的关键。晶粒细化不仅有利于Cr-Si靶材内部组织均匀化,且能降低其韧脆转变温度,从而使炼制的靶材强度和硬度高、塑性好,提高靶材的成品率。分析了晶粒细化提高靶材综合性能的原因,并介绍了研究中所采用的Ti细化剂、磁力搅拌等晶粒细化措施。实验表明,在RJ24生产线上溅射的1 MΩ金属膜电阻器具有较好的性能,且电阻温度系数均小于20×10-6/℃。
王秀宇张之圣白天刘志刚毕大鹏
关键词：金属膜电阻器电阻温度系数磁控溅射晶粒细化
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