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国家自然科学基金(50872028)

作品数:10 被引量:14H指数:3
相关作者:陈贵锋蔡莉莉冯翠菊薛晶晶郝秋艳更多>>
相关机构:河北工业大学华北科技学院浙江大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金河北省自然科学基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域:电子电信建筑科学交通运输工程更多>>

文献类型

  • 10篇中文期刊文章

领域

  • 9篇电子电信
  • 2篇建筑科学
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 7篇直拉硅
  • 6篇电子辐照
  • 4篇氧沉淀
  • 3篇单晶
  • 2篇中子辐照
  • 2篇硅单晶
  • 2篇辐照缺陷
  • 2篇OXYGEN
  • 1篇单晶硅
  • 1篇电学
  • 1篇电阻率
  • 1篇定向凝固
  • 1篇定向凝固过程
  • 1篇诱生缺陷
  • 1篇直拉硅单晶
  • 1篇少子寿命
  • 1篇数值模拟
  • 1篇凝固
  • 1篇凝固过程
  • 1篇谱表

机构

  • 7篇河北工业大学
  • 6篇华北科技学院
  • 2篇浙江大学
  • 1篇天津商业大学
  • 1篇中海油田服务...

作者

  • 7篇陈贵锋
  • 6篇蔡莉莉
  • 4篇冯翠菊
  • 3篇郝秋艳
  • 3篇薛晶晶
  • 2篇马巧云
  • 2篇马晓薇
  • 1篇李养贤
  • 1篇王会彬
  • 1篇张辉
  • 1篇吴建海

传媒

  • 3篇硅酸盐学报
  • 2篇Chines...
  • 2篇材料科学与工...
  • 1篇硅酸盐通报
  • 1篇稀有金属
  • 1篇浙江大学学报...

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
10 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
电子辐照对直拉硅单晶电学参数的影响被引量:3
2013年
对N型[111]晶向直拉硅样品进行电子辐照,然后在不同温度下进行常规热处理,对比研究了不同辐照剂量的样品少子寿命和电阻率随退火温度的变化。结果表明:直拉硅单晶样品经电子辐照后电阻率增加,少子寿命下降,辐照剂量越高电阻率增加的越多,少子寿命下降越明显。对辐照样品进行不同温度热处理发现热处理温度低于600℃,少子寿命基本处于稳定值,当退火温度达到650℃时,辐照样品的电阻率与少子寿命均恢复至辐照前的初始值,表明在该温度下辐照引入的缺陷基本消除,因此晶体的导电能力逐渐恢复。而经750℃热处理后,辐照样品的少子寿命和电阻率分别出现一个低谷,辐照剂量越高电阻率和少子寿命值在该温度下下降幅度越大,而且随着热处理时间的延长,辐照样品电阻率不断下降,通过间隙氧含量的测量也初步证明电阻率的下降与间隙氧原子的偏聚有关,该温度下电阻率的下降与辐照相关联。
蔡莉莉冯翠菊陈贵锋
关键词:电子辐照少子寿命辐照缺陷电阻率
快中子辐照直拉硅中的氧沉淀及诱生缺陷被引量:3
2010年
利用光学显微镜和透射电子显微镜,研究了1100℃退火后快中子辐照直拉硅中氧沉淀及诱生缺陷的产生及其随退火时间的演变情况。实验发现:在快中子辐照直拉硅中,氧沉淀过程中产生了氧沉淀诱生的体层错和结构复杂的位错环。延长退火时间,缺陷密度增加。当过饱和态的间隙氧基本沉淀之后,诱生缺陷密度不再变化。较高剂量辐照样品中的缺陷尺寸较大,但密度相对较低。经高温退火的快中子辐照直拉硅中生成了直径约为40nm的氧沉淀,其形貌为多面体氧沉淀。
马巧云陈贵锋马晓薇薛晶晶郝秋艳
关键词:快中子辐照直拉硅氧沉淀
热处理气氛对电子辐照直拉硅中氧沉淀的影响
2014年
对经过电子辐照的n型[111]晶向直拉硅样品在不同气氛下进行了热处理,对比研究了热处理气氛对电子辐照直拉硅中的缺陷形貌、间隙氧含量的变化以及清洁区的影响。实验结果表明,热处理气氛对辐照样品中的缺陷形貌影响较大:氩气氛下退火样品体内的缺陷以位错环为主而氮气氛下则主要是层错,并对此现象的机理进行了讨论;经历不同气氛快速预处理再进行高温一步退火后,辐照样品表面会产生一定宽度的清洁区,而氮气氛下清洁区宽度较窄;通过傅里叶变换红外光谱仪检测间隙氧含量的变化发现氮气氛下退火的样品间隙氧含量下降较多,说明氮气氛热处理更有利于氧沉淀的生成。
蔡莉莉冯翠菊陈贵锋
关键词:电子辐照氧沉淀
电子辐照直拉硅中VO_2的红外光谱表征
2014年
用能量为1.5MeV,剂量为1.8×101 8e/cm2的电子束辐照直拉硅单晶样品,通过傅里叶变换红外光谱技术(FTIS)研究了辐照后样品中VO2缺陷随退火温度的变化及其热稳定性。实验结果表明,辐照在样品中引入了VO2的亚稳态缺陷,其特征吸收峰在低温红外光谱中向高频方向移动,300℃热处理时该亚稳态缺陷转化为VO缺陷;400℃热处理样品中出现了VO2的稳态缺陷,450℃热处理该稳态缺陷的峰值强度达到最大,当退火温度达到550℃时,该稳态缺陷完全消失并转化为其它复杂的缺陷。这种稳态的VO2缺陷经历450℃长时间热处理表现出良好的热稳定性,而在500℃短时热处理后转化为其它缺陷。
蔡莉莉冯翠菊陈贵锋
关键词:电子辐照
Infrared studies of oxygen-related complexes in electron-irradiated Cz-Si
2009年
This paper investigates the infrared absorption spectra of oxygen-related complexes in silicon crystals irradiated with electron (1.5 MeV) at 360 K.Two groups of samples with low [Oi] = 6.9 x 10^17 cm^-3 and high [Oi] = 1.06 x 10^18 cm^-3 were used.We found that the concentration of the VO pairs have different behaviour to the annealing temperature in different concentration of oxygen specimen,it is hardly changed in the higher concentration of oxygen specimen.It was also found that the concentration of VO2 in lower concentration of oxygen specimen gets to maximum at 450 ℃ and then dissapears at 500 ℃,accompanied with the appearing of VO3. For both kinds of specimens,the concentration of VO3 reachs to maximum at 550 ℃ and does not disappear completely at 600 ℃.
陈贵锋阎文博陈洪建崔会英李养贤
关键词:CZ-SI
多晶硅锭定向凝固过程的温度场模拟被引量:5
2015年
采用数值模拟方法研究了不同的工艺条件对多晶硅锭定向凝固过程中固液界面形状和温度梯度的影响,为优化多晶硅凝固过程的参数和有效控制定向凝固过程提供了参考依据。模拟结果表明,降埚速率越大,晶体生长速率越快,硅锭内温度梯度也随之增加,当降埚速率小于60mm/h时,固液界面始终保持凹界面;保持一定的降埚速率和冷源温度不变,改变多晶硅锭的冷却速率,坩埚内固液界面的形状基本保持不变,但冷却速率对晶锭内温度梯度的影响较明显,冷却速率越大晶锭内温度梯度越大。
蔡莉莉冯翠菊王会彬
关键词:数值模拟温度梯度固-液界面
低温热处理对电子辐照直拉硅中V-O缺陷的影响被引量:1
2011年
采用能量为1.5 MeV、辐照温度为100℃、辐照剂量为1.8×1018 e/cm2电子辐照直拉单晶硅;然后对电子辐照样品进行不同温度和时间的低温(200~600℃)热处理。通过辐照样品的Fourier变换红外光谱研究了热处理后样品中的空位–氧相关缺陷的转化情况。结果表明:未经热处理的电子辐照的硅样品中出现了空位–双氧复合体(VO2)缺陷的889 cm–1吸收峰,这是由于辐照温度较高所致。经低温热处理后,在氧含量较低的辐照样品中的VO和VO2缺陷会相互转化,而氧含量较高的样品中VO、VO2吸收峰强度几乎不变。VO2和空位–三氧复合体(VO3)缺陷在450℃热处理30 min后呈现出一定的稳定性。
蔡莉莉陈贵锋张辉郝秋艳薛晶晶
关键词:单晶硅电子辐照辐照缺陷
The effects of fast neutron irradiation on oxygen in Czochralski silicon
2009年
The effects of fast neutron irradiation on oxygen atoms in Czochralski silicon (CZ-Si) are investigated systemically by using Fourier transform infrared (FTIR) spectrometer and positron annihilation technique (PAT). Through isochronal annealing, it is found that the trend of variation in interstitial oxygen concentration ([Oi]) in fast neutrons irradiated CZ-Si fluctuates largely with temperature increasing, especially between 500 and 700℃. After the CZ-Si is annealed at 600℃, the V4 appearing as three-dimensional vacancy clusters causes the formation of the molecule-like oxygen clusters, and more importantly these dimers with small binding energies (0.1-1.0eV) can diffuse into the Si lattices more easily than single oxygen atoms, thereby leading to the strong oxygen agglomerations. When the CZ-Si is annealed at temperature increasing up to 700℃, three-dimensional vacancy clusters disappear and the oxygen agglomerations decompose into single oxygen atoms (O) at interstitial sites. Results from FTIR spectrometer and PAT provide an insight into the nature of the [Oi] at temperatures between 500 and 700℃. It turns out that the large fluctuation of [Oi] after short-time annealing from 500 to 700℃ results from the transformation of fast neutron irradiation defects.
陈贵锋阎文博陈洪建李兴华李养贤
快速热处理对高能粒子辐照硅中氧沉淀的影响被引量:1
2011年
研究快速热处理对快中子辐照掺氮直拉硅(NCZ-Si)和电子辐照直拉硅(CZ-Si)中氧沉淀和清洁区(DZ)的影响.样品经过不同温度、降温速率和退火气氛快速热处理(RTP)预处理后,再进行高温一步长时间退火,以形成氧沉淀.研究结果表明:对于快中子辐照NCZ-Si,RTP有助于后期退火中DZ的生成,且RTP温度越高,形成的DZ越宽;而高的降温速率会使得DZ宽度变窄;对于电子辐照CZ-Si,在N2气氛下高温RTP更能促进氧沉淀形成,体缺陷(bulk micro defects,BMDS)密度较大.
陈贵锋马晓薇吴建海马巧云薛晶晶郝秋艳
关键词:中子辐照电子辐照直拉硅氧沉淀
快速热处理对电子辐照直拉硅中氧沉淀的影响被引量:1
2010年
对n型[111]晶向直拉硅样品进行电子辐照,然后分别在不同温度和降温速率下快速热处理(rapid thermal process,RTP),再在1100℃下进行常规一步退火。研究了RTP温度和降温速率对硅样品内氧沉淀的变化及样品表面清洁区形成的影响。结果表明:经过RTP再经高温一步退火后,硅晶体内形成了密度较高的氧化诱生层错以及完整的位错环,样品表面形成了一定宽度的清洁区;清洁区的宽度随RTP温度及降温速率的升高而变窄。当RTP温度达到1280℃时,样品中的层错和位错环明显减少,此时当RTP降温速率增加至150℃/s时,大部分层错消失,样品中出现了大量的点状腐蚀坑。
蔡莉莉陈贵锋李养贤
关键词:硅单晶电子辐照氧沉淀
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