江苏省高技术研究计划项目(BG2004020)
- 作品数：9 被引量：31H指数：4
- 相关作者：吴建宏刘全陈刚李朝明方玲玲更多>>
- 相关机构：苏州大学南京信息职业技术学院中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：江苏省高技术研究计划项目国家高技术研究发展计划江苏省高校自然科学研究项目更多>>
- 相关领域：理学机械工程电子电信更多>>
- 脉冲压缩光栅光路调节新方法研究被引量：2
- 2006年
- 介绍了一种简单而实用的大口径脉冲压缩光栅光路调节方法,有效解决了普通光路调节方法中轴向调节精度不高的问题。首先由全息透镜(光栅)成像公式出发,推导出了该光路调节的基本原理。并从光栅记录系统与光栅衍射波像差的关系,结合初级像差理论推导得出叠栅条纹像差为0.4786λ,大约是光栅衍射波像差(0.25λ)的两倍,利用此关系也可对光栅衍射波像差进行实时监测。从数值模拟结果可知,利用叠栅条纹法调节光路可将光栅波像差减至0.06λ,相应的轴向误差量为0.007 mm,可有效提高了轴向调节精度。
- 张伟吴建宏朱健强李朝明
- 关键词：叠栅条纹波像差数值模拟
- 用平凸透镜制作大口径光栅的像差分析被引量：4
- 2007年
- 分析使用两个对称的单平凸透镜光路制作光栅并用MATLAB编写光线追迹程序分析了所制作的光栅的衍射波像差的特点,经计算得出在较小焦比D/F情况下其衍射波像差仅与两支光路点光源的调节偏差之差有关与单独的各个偏差无关;初级像差中球差很小几乎可忽略:彗差仅与垂轴调节偏差之差成线性关系;像散仅与轴向调节偏差之差成正比;且当平凸透镜的焦比D/F增大时,各像差项迅速增大。点光源调节偏差一致时的衍射波像差随着系统的焦比D/F增大而迅速增大,并分析了当透镜的焦比D/F一定时,透镜的焦距与所制作的光栅的空间频率对衍射波像差的影响。
- 王诗华吴建宏李朝明陈刚
- 关键词：平凸透镜光栅像差
- 全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究被引量：6
- 2008年
- 为了控制全息光栅光刻胶掩模槽形,运用曝光模型和显影模型模拟了掩模的槽形形成过程和变化规律。实验对比了不同曝光量,不同显影浓度,不同空频条件下的掩模槽形,特别是占宽比(光栅齿宽度与光栅周期的比)的情况。实验结果表明,实际槽形与模拟槽形很接近。模拟和实验均发现,在大曝光量、高浓度显影、高空频的光栅条件下所得槽形占宽比较小,槽深主要由原始胶厚决定。
- 陈刚吴建宏刘全
- 关键词：衍射光栅
- 镀铬对光刻胶全息光栅掩模槽形的影响
- 2007年
- 为了研究镀铬对光刻胶光栅掩模槽形的影响,分析了铬膜反射引起的沿垂直光刻胶表面的驻波效应。分析表明驻波效应的对比度为0.28,不能忽略。将镀铬基底与普通的玻璃基底的掩模槽形对比,发现明显的不同。槽形模拟表明这种不同是由于驻波效应引起的。驻波效应会使掩模形成阶梯结构,且阶梯高度差正好为驻波波节间距离。
- 陈刚吴建宏刘全
- 关键词：衍射光栅
- 线性啁啾相位掩模的设计被引量：2
- 2006年
- 啁啾相位掩模法是啁啾光纤光栅的一种非常重要的制作方法。本文研究讨论了用全息干涉方法制作线性啁啾位相掩模的设计方法,提出用两球面波干涉产生条纹密度随空间距离线性变化的干涉条纹记录啁啾位相光栅,按设定光栅端点空频和端点空频差两种优化设计方法设计了长度100mm、啁啾量1nm/mm的线性啁啾光栅,理论和实验结果给出两种设计方案的非线性系数分别为2.5%和1.6%,理论设计和实验结果相符。
- 方玲玲吴建宏刘全陈刚
- 关键词：啁啾光纤光栅
- 制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究被引量：3
- 2006年
- 利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现，在紫外写入波长（248nm）下，为了使零级衍射效率〈5％，且±1级的衍射效率〉35％，相位掩模的刻槽深度必须控制在230．280nm。占宽比必须控制在0．48～0．65。同时，与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。
- 刘全吴建宏陈刚方玲玲
- 关键词：相位掩模光纤光栅衍射效率严格耦合波理论
- 线性啁啾相位掩模的研制被引量：5
- 2009年
- 利用严格耦合波理论分析了线性啁啾相位掩模的衍射特性,得到只有当相位掩模的占宽比在0.37～0.50之间,槽形深度在242～270 nm之间时,才能保证零级衍射效率小于2%,同时正负一级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息-离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的新方法,制作了中心周期为1000 m,啁啾率1 nm/mm,有效面积为100mm×10 mm的线性啁啾相位掩模。发现先用短时间Ar离子束刻蚀对光刻胶光栅掩模槽形进行修正,然后采用CHF_3反应离子束刻蚀,能得到更合适的占宽比,从而确定了刻蚀新工艺。实验测量表明其零级衍射效率小于2%,正负一级衍射效率大于35%,最大非线性系数为1.6%。理论分析表明该相位掩模能够满足制作线性啁啾光纤光栅的需要。
- 刘全吴建宏杨卫鹏方玲玲
- 关键词：严格耦合波理论离子束刻蚀衍射效率
- 光刻胶全息光栅显影监测的模拟与实验被引量：2
- 2009年
- 为了控制光刻胶全息光栅显影过程,建立了槽形演化和衍射效率模型,模拟了槽形演化和衍射效率曲线,分析了显影监测曲线的特征和规律。并将模拟槽形和实验槽形、模拟监测曲线和实验监测曲线进行对比,均很好地吻合。结果表明衍射效率的监测对把握显影过程停显时刻、控制掩摸槽形非常有效。
- 陈刚吴建宏刘全陈新荣李朝明
- 关键词：信息光学全息光栅
- 高分辨率平场全息凹面光栅的研制被引量：8
- 2006年
- 提出一种利用ZEMAX软件设计、分析评价平场全息凹面光栅的方法。该方法不需要求解复杂的高级像差方程组，兼顾平像场和提高分辨率的效果显著。ZEMAX软件能对设计结果迅速进行评价，减少了人工运算，提高了设计结果的可信度及工作效率。研制了直径Ф=60mm、F／#=3．3和使用波长范围为652～704nm的全息凹面光栅，对设计结果分析表明：在点光源再现情况下，理论分辨率优于0．1nm；在宽度为30μm缝光源再现情况下，理论分辨率优于0．2nm。实际研制结果与理论分析相符。
- 李朝明吴建宏赵艳皎唐敏学
- 关键词：全息线阵CCD
