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Self-diffractionin Porous Silicon/PMMA-DR1 Composite Fil ms被引量：1: 2006年; Two-layer structure consisting of PS/PMMA-DR1 composite film planar waveguide layer on porous silicon cladding layer was fabricated in our experiment. The induced grating based on the third nonlinear optical properties was formed by interaction of two Nd∶YAG laser beams at 1064nm in the porous silicon/PMMA-DR1 waveguide. The diffraction efficiency of the first order diffracted light is measured to be about 0.2% of the total output.; JIA Zhen-hong; 关键词：自衍射

多孔硅-PMMA/DR1复合膜制备方法的研究被引量：3: 2004年; 　用直接浸泡、匀胶机涂布和超声波三种方法在多孔硅中嵌入了聚甲基丙烯酸甲酯/分散红1(PMMA/DR1),制备出多孔硅有机材料复合薄膜。研究了多孔硅孔隙率、匀胶机转速和PMMA甲苯溶液浓度等参量对PMMA/DR1嵌入多孔硅的影响。分析了嵌入PMMA/DR1后多孔硅的荧光及样品稳定性的变化情况。; 贾振红涂楚辙黄晓辉; 关键词：多孔硅孔隙率

氧化多孔硅周期性波导光栅耦合器的实验研究被引量：1: 2004年; 报道了用两束相干激光在HF溶液中的多孔Si(PS)表面上干涉形成光强周期分布,通过光溶解得到了孔隙率周期变化的结构,从而制备出氧化PS周期性波导光栅。实现了辐射模与波导中传输模之间的耦合,并由外部入射光波或衍射光的方向确定了波导层的有效折射率。; 贾振红涂楚辙地里木拉提.吐尔逊; 关键词：光栅耦合器氧化多孔硅光电子器件平面波导

用电化学腐蚀法制备氧化多孔硅波导定向耦合器被引量：3: 2005年; 用一种聚合物材料薄膜作为掩膜 ,通过在电化学腐蚀过程中控制腐蚀电流和时间 ,首次制备出了氧化多孔硅波导定向耦合器。实验中用波长为 980nm的激光作为信号光源 ,观测到了样品的耦合光信号。给出了耦合器耦合系数不确定的因素 ,同时也分析了多孔硅波导传输损耗形成的原因。; 贾振红涂楚辙地里木拉提.土尔逊李芮; 关键词：氧化多孔硅波导定向耦合器

多孔硅/聚合物复合膜光学各向异性的研究被引量：2: 2006年; 首次用二维圆柱孔模型研究了多孔硅/聚合物复合膜的光学各向异性,求出了光学各向异性参数。实验上制备出了多孔硅/PMMA复合膜平面波导,采用棱镜耦合m线方法测量了复合膜的折射率。理论分析与实验结果基本相符。研究结果表明,多孔硅膜呈现出正单轴晶体的特征,由TE和TM模射所确定的折射率分别对应寻常光折射率和非寻常光折射率。多孔硅/PMMA复合膜光学各向异性随聚合物嵌入率的增加而减小。光学各向异性也随孔隙率的不同而变化,当初始孔隙率为73%时,光学各向异性参数β取最大值。; 贾振红涂楚辙地里木拉提.土尔逊; 关键词：多孔硅波导光学各向异性

多孔硅波导透镜的实验研究(英文): 2003年; 给出了利用选择性的电化学腐蚀过程制备氧化多孔硅光波导棱镜的方法,分别制备出基于多孔硅的汇聚和发散透镜.这类波导棱镜可以明显地汇聚和发散波导中传输的偏振光束.; 贾振红; 关键词：电化学腐蚀偏振光光学实验

多孔硅通道型光波导的制备及传输损耗的测量被引量：8: 2003年; 利用多孔硅在阳极腐蚀过程中外加的光照度与孔隙率的对应关系 ,提出了一种利用光照控制多孔硅折射率的方法制备通道型光波导技术 .对制备出的多孔硅波导损耗进行了分析 .由于多孔硅波导层中孔状结使得波导端面较为粗糙 ,耦合损耗大是多孔硅光波导传输损耗测量中遇到的的问题 ,对此采用了一种非破坏性的简便的优化端面耦合传输损耗测量方法 ,可以实现入射光束与波导的完全耦合 ,消除了因光波与波导中导波模式间失配引起的损耗 .较精确的测量出实验中制备的通道型多孔硅光波导的传输损耗为 16.2dB cm ,波导端面的散射损耗为 3.6dB .; 贾振红; 关键词：氧化多孔硅传输损耗

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国家自然科学基金(60067001)