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光学表面的光散射测量方法被引量：3: 2008年; 光学表面的光散射测量方法为目前测量光学元件表面散射特性的一种主要技术,主要包括角分辨测量法和总积分测量法.本文对上述两种测量方法的基本原理和实验装置进行了系统的阐述,并对两种方法进行了比较分析.最后讨论了散射测量方法发展的趋势.; 侯海虹; 关键词：测量方法光学表面粗糙度

利用总积分散射仪研究不同清洗技术下的基片表面粗糙度被引量：4: 2009年; 为了探讨不同清洗工艺对基片表面微观粗糙度的影响,利用总积分散射(TIS)仪分别对不同条件下超声清洗的K9玻璃基片,End hall离子源清洗的K9玻璃基片和Kaufmann离子源清洗的熔石英基片的表面均方根(RMS)粗糙度进行了系统表征。结果表明,K9玻璃基片经不同条件下的超声波清洗后,由于清洗过程中表面受到损伤,其RMS粗糙度均有所增加;而对于End hall离子源和Kaufmann离子源清洗的基片,其表面RMS粗糙度的变化受清洗过程中离子束流、清洗时间和离子束能量等实验参量的影响较为明显,选择合适的实验参量可以降低基片表面粗糙度。; 侯海虹沈健张大伟范正修; 关键词：基片表面粗糙度散射仪

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江苏省高校自然科学研究项目(ky200684)