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上海市自然科学基金(05ZR14015)

作品数:3 被引量:13H指数:2
相关作者:周嘉是慧芳吕尊实黄宜平王锡明更多>>
相关机构:复旦大学中国科学院合肥学院更多>>
发文基金:上海市自然科学基金国家自然科学基金教育部重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电气工程理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电镀
  • 1篇微电极阵列
  • 1篇微机电系统
  • 1篇微加工
  • 1篇微结构
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇聚二甲基
  • 1篇聚二甲基硅氧...
  • 1篇刻蚀
  • 1篇机电系统
  • 1篇甲基
  • 1篇二甲基
  • 1篇二甲基硅氧烷
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇PDMS
  • 1篇SI
  • 1篇AL
  • 1篇残余应力
  • 1篇O

机构

  • 3篇复旦大学
  • 1篇合肥学院
  • 1篇中国科学院

作者

  • 3篇周嘉
  • 1篇黄宜平
  • 1篇程正喜
  • 1篇吕尊实
  • 1篇郭育林
  • 1篇是慧芳
  • 1篇王军军
  • 1篇王锡明

传媒

  • 2篇微细加工技术
  • 1篇传感技术学报

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
SF_6/O_2气氛下Al对反应离子刻蚀Si的增强作用机理研究被引量:2
2007年
通过实验和统计分析方法研究了Al在SF6/O2气体干法刻蚀Si中的增强作用机理。研究表明,Al在SF6/O2刻蚀Si中具有增强作用,而且Al的增强作用基本独立,受其它刻蚀条件的影响较小。Al对Si刻蚀速率的增强作用并非都是由于衬底温度升高所致,而是Al表面形成的AlF单原子层起到了催化作用,使SF6分解出更多的F自由基,从而提高了Si的刻蚀速率。
程正喜郭育林周嘉
关键词:反应离子刻蚀AL
三维神经微电极阵列新制作技术研究被引量:6
2008年
尝试了一种低成本的三维微电极阵列微加工的新方法。玻璃划片形成的柱状阵列,经掩膜腐蚀后形成阳模板,再利用PDMS的微复制技术形成阴模板。利用阴模板进行电镀,可以得到三维微电极阵列。制作的铜电极阵列高度约180μm,为制作更长的神经微电极阵列打下了基础。
吕尊实周嘉黄宜平是慧芳
关键词:微加工电镀微电极阵列
多层薄膜微结构热应力计算被引量:5
2007年
建立了以制作工艺为基础、适合多层薄膜微结构的热应力的计算公式。在Stoney方程相同的条件下,验证了所建模型的准确性。所建模型应用于多层微悬臂梁结构在残余应力作用下的形变计算,与实验测量结果的对比表明,误差在10%以内,说明所建模型具有非常好的实用性,可以为多层薄膜微结构设计和优化提供理论依据。
王锡明王军军周嘉
关键词:微机电系统残余应力
共1页<1>
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