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国家科技攻关计划(2006BAE04B05-1)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：鲜林云时惠英杨巍蒋百灵更多>>
相关机构：西安理工大学更多>>
发文基金：国家科技攻关计划更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇氧化膜
  • 1篇阻抗
  • 1篇微弧氧化
  • 1篇微弧氧化膜
  • 1篇微弧氧化膜层
  • 1篇铝合金
  • 1篇膜层
  • 1篇合金
  • 1篇表面特性
  • 1篇沉积层

机构

  • 1篇西安理工大学

作者

  • 1篇蒋百灵
  • 1篇杨巍
  • 1篇时惠英
  • 1篇鲜林云

传媒

  • 1篇中南大学学报...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
铝合金表面特性与微弧氧化膜层生长过程的相关性被引量：1
2010年
利用扫描电镜(SEM)、X线光电子能谱仪(XPS)和IM6e电化学工作站等分析手段,探讨沉积层阻抗与微弧氧化膜层生长过程的相关性。研究结果表明:溶质离子参与沉积层的形成,并使其物质组成、微观结构以及阻抗产生较大差异,进而影响起弧时间和起弧电压;起弧后陶瓷层生长将依赖于基体铝向氧化铝的转变而使样品表面阻抗增大,有微量溶质离子被动参与成膜;铝合金表面预制备膜在起始阶段即增加样品的绝缘性,其种类和阻抗对微弧氧化起弧和生长过程影响均较小。
杨巍蒋百灵时惠英鲜林云
关键词：铝合金微弧氧化沉积层阻抗
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