您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(61007015)

作品数:3 被引量:1H指数:1
相关作者:梁海锋蔡长龙盛蕾任雯张玉娟更多>>
相关机构:西安工业大学西安交通大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金陕西省科学技术研究发展计划项目陕西省教育厅科研计划项目更多>>
相关领域:理学机械工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程

主题

  • 2篇电子发射
  • 2篇电子发射特性
  • 2篇颗粒膜
  • 2篇
  • 2篇场致发射
  • 1篇钛颗粒
  • 1篇膜厚
  • 1篇发射电流
  • 1篇发射率
  • 1篇伏安特性
  • 1篇薄膜厚度
  • 1篇

机构

  • 3篇西安工业大学
  • 1篇西安交通大学

作者

  • 3篇梁海锋
  • 2篇蔡长龙
  • 1篇张玉娟
  • 1篇任雯
  • 1篇盛蕾

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇表面技术
  • 1篇真空

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
镍硅颗粒膜的表面传导电子发射特性
2010年
本文提出采用镍硅颗粒薄膜作为表面传导电子发射显示的发射体材料,通过光刻和磁控溅射在两电极(10μm间隙)之间制备30 nm厚的镍硅颗粒膜。施加三角波电压进行电形成工艺,并测试了器件的电学特性。获得主要结果有,在器件阳极电压2000 V和器件阴极电压13 V的作用下,可以重复探测到稳定的器件发射电流,并且随器件阴极电压的增加而明显增加,最大的发射电流达到了1.84μA(共18个单元);电形成过程中,单个发射体单元的薄膜电阻从13Ω增加到10913Ω;通过对器件发射电流的Fowler-Nordheim结分析,可以确定电子发射机理属于场致电子发射。
梁海锋张玉娟
关键词:发射电流场致发射
颗粒膜厚度对表面传导电子发射的影响被引量:1
2013年
制备了不同厚度下的C-Ti颗粒膜用作表面传导电子发射的阴极发射薄膜,研究了不同颗粒膜厚度对电子发射特性的影响。将所制备阴极器件加载不同电压幅值下的等幅三角波,对器件进行电形成,结果表明:颗粒膜厚度为69nm的器件开启电压为32V,在33V时具有最大发射效率;颗粒膜厚度为855nm的器件开启电压为15V,在23V时发射效率最高;颗粒膜厚度为69nm的器件所形成的电压范围和电子发射效率都明显高于颗粒膜厚度为855nm的器件。
盛蕾梁海锋蔡长龙
关键词:薄膜厚度
碳钛颗粒膜表面电子发射特性
2012年
采用磁控溅射技术沉积碳钛颗粒膜,应用图形化工艺制作基于碳钛颗粒膜的表面电子发射原型器件。在幅值渐增的三角波电压作用下,器件在电压幅值低于17V时,伏安特性呈明显的线性特性,对应的薄膜表面没有变化;进一步升高器件电压幅值,伏安特性呈明显的负阻特性,同时可以观测到表面电子发射,表面电子发射最大达到7.2μA,发射效率达到了0.094 3%,薄膜表面失色,产生明显的孔洞结构。根据F-N理论拟合器件电压和发射电流,所得Ie-Vf特性曲线呈直线,表明发射电子源于场致电子发射。
任雯梁海锋蔡长龙
关键词:伏安特性场致发射
共1页<1>
聚类工具0