广东省东莞市科研发展专项基金(2003D1011)
- 作品数：1 被引量：5H指数：1
- 相关作者：杨君友许聚良张同俊孙荣幸戴伟更多>>
- 相关机构：华中科技大学武汉科技大学更多>>
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- 相关领域：理学更多>>
- 射频磁控溅射超硬TiB2薄膜的T区结构特征被引量：5
- 2008年
- 用磁控溅射技术在钢基片上沉积出具有T区结构的TiB2薄膜,研究基片偏压对薄膜的影响。使用X射线衍射技术和扫描电镜分析薄膜的特性。发现在本研究工艺条件下,所有的薄膜均呈(001)晶面择优生长。当基片偏压在-50 V时,薄膜的硬度为50 GPa,抗塑性变形的能力为0.65 GPa。加大基片偏压,导致薄膜晶粒尺寸减小,同时薄膜的硬度和抗塑性变形的能力也下降。扫描电镜分析显示,基片温度对T区结构的影响是明显的,提高基片温度,当Ts/Tm=0.18时,薄膜中出现"等轴"结构。
- 戴伟张同俊杨君友孙荣幸许聚良
- 关键词：超硬涂层磁控溅射
