辽宁省教育厅高等学校科学研究项目(2004F006)
- 作品数：2 被引量：5H指数：2
- 相关作者：陈立佳宋贵宏李锋张硕娄茁更多>>
- 相关机构：沈阳工业大学更多>>
- 发文基金：辽宁省教育厅高等学校科学研究项目辽宁省博士科研启动基金更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>
- 铝合金上电弧离子镀(Ti,Al)N膜的腐蚀特性被引量：2
- 2010年
- 研究铝合金上电弧离子镀(Ti,Al)N膜层的腐蚀性能。通过对3种N2气分压下沉积膜层的阳极极化曲线、电化学阻抗谱、盐雾腐蚀失重曲线以及表面形貌的分析表明:沉积过程氮分压较低时,膜层中含有富金属相,耐腐蚀性能较低;增加氮分压使膜层中金属与非金属呈理想配比时,膜层的耐腐蚀性明显增加;膜层在缺陷处产生点蚀、电偶腐蚀,并通过形成裂纹、碎屑脱落使质量显著减小。
- 宋贵宏张硕李锋陈立佳
- 关键词：AL合金电弧离子镀氮分压
- 脉冲偏压对铝合金上TiN膜生长的影响被引量：3
- 2010年
- 为了研究在铝合金上硬质膜的性能,促进硬质TiN膜在铝合金构件上的应用,利用电弧离子镀在7075铝合金上沉积TiN膜层,并通过改变脉冲偏压幅值研究其对薄膜生长过程的影响.结果表明,生长的TiN膜具有柱状特征,在无偏压或低偏压时,柱状特征明显,但随着负偏压值的增大,柱状特征变得不明显,膜层中Ti和N的原子比率增加,由无偏压、低偏压时近似为1.0增加到-200V偏压时的1.2.在0～-200V偏压范围内,沉积膜的平均生长速率由1.5μm/h增加到11.3μm/h.随着负偏压的增加,TiN膜的(111)方向的择优取向越来越明显,而(200)方向强度越来越小.沉积膜呈柱状生长,具有明显的择优取向,其程度受脉冲偏压影响.
- 宋贵宏张硕娄茁李锋陈立佳
- 关键词：TIN膜脉冲偏压薄膜生长硬质膜
