您的位置: 专家智库 > >

国家高技术研究发展计划(2004AA849023)

作品数:3 被引量:15H指数:2
相关作者:吴建宏陈新荣陈刚刘全万华更多>>
相关机构:苏州大学中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划江苏省高校高新技术产业发展项目江苏省高技术研究计划项目更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇理学

主题

  • 1篇叠栅条纹
  • 1篇镀铬
  • 1篇多层介质
  • 1篇多层介质膜
  • 1篇掩模
  • 1篇数值模拟
  • 1篇条纹
  • 1篇全息
  • 1篇全息光栅
  • 1篇介质
  • 1篇介质膜
  • 1篇基片
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻胶
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱检测
  • 1篇光栅
  • 1篇波像差
  • 1篇层介质膜
  • 1篇值模拟

机构

  • 3篇苏州大学
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 3篇吴建宏
  • 2篇陈新荣
  • 1篇朱健强
  • 1篇刘全
  • 1篇万华
  • 1篇李朝明
  • 1篇陈刚
  • 1篇张伟

传媒

  • 2篇中国激光
  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇2006
  • 1篇2005
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
镀铬基片全息光栅光刻胶掩模槽形参量光谱检测方法被引量:8
2006年
为了检测全息光栅掩模槽形,运用严格耦合波理论(RCWT)分析镀铬基片光栅光刻胶掩模反射0级衍射效率光谱曲线与槽形参量的关系。测量了400~700nm波长范围内60°入射角条件下的镀铬基片全息光栅光刻胶掩模反射0级衍射效率光谱曲线。将实验曲线与不同槽形参数对应理论曲线相减、求标准差进行匹配,标准差最小者为匹配结果,从而找到被测掩模的槽深和占宽比(光栅齿宽占光栅周期的百分比)。结果表明,该方法图形匹配速度快,误差容限大,匹配结果与电镜结果相符。对于要求同时检测矩形或接近矩形槽形的全息光刻胶光栅掩模的槽深和占宽比,该方法完全适用。
陈刚吴建宏陈新荣刘全
关键词:光谱检测
脉冲压缩光栅光路调节新方法研究被引量:2
2006年
介绍了一种简单而实用的大口径脉冲压缩光栅光路调节方法,有效解决了普通光路调节方法中轴向调节精度不高的问题。首先由全息透镜(光栅)成像公式出发,推导出了该光路调节的基本原理。并从光栅记录系统与光栅衍射波像差的关系,结合初级像差理论推导得出叠栅条纹像差为0.4786λ,大约是光栅衍射波像差(0.25λ)的两倍,利用此关系也可对光栅衍射波像差进行实时监测。从数值模拟结果可知,利用叠栅条纹法调节光路可将光栅波像差减至0.06λ,相应的轴向误差量为0.007 mm,可有效提高了轴向调节精度。
张伟吴建宏朱健强李朝明
关键词:叠栅条纹波像差数值模拟
利用严格耦合波方法研究多层介质膜光栅掩膜特性被引量:7
2005年
从理论和实验上研究了多层介质膜光栅掩膜特性,用严格耦合波(RCW)法对由光栅掩膜槽形和多层膜介质基底引起的衍射效率的变化进行了理论分析,计算得出不同形貌下的光栅掩膜的反射0级光谱衍射效率分布。在实验检测方法上,采用了0级反射光衍射效率分布来进行槽形判断,并将实验结果和理论计算进行了对比。结果证明使用该方法研究光栅掩膜形貌在一定程度上是有效的。
万华陈新荣吴建宏
关键词:多层介质膜
共1页<1>
聚类工具0