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陕西省科学技术研究发展计划项目(2010KW-07)

作品数：1 被引量：0H指数：0
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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇AR
  • 1篇CH
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇H
  • 1篇A-C

机构

  • 1篇西安工业大学

作者

  • 1篇杭凌侠
  • 1篇惠迎雪
  • 1篇弥谦
  • 1篇王超
  • 1篇张艳茹

传媒

  • 1篇西安工业大学...

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
Ar/CH_4流量比对a-C∶H薄膜沉积速率及性能的影响
2012年
为研究气体流量比对非平衡磁控溅射沉积含氢类金刚石薄膜(Diamond-Like Carbon,DLC)沉积速率及性能的影响,在不同Ar/CH4流量比条件下将a-C∶H沉积在单晶硅基底,采用傅里叶红外光谱、椭偏仪、表面轮廓仪对薄膜的沉积速率、光学特性及表面粗糙度进行研究.实验结果表明:引入甲烷气体后,非平衡磁控溅射沉积a-C∶H薄膜沉积速率大幅度提高;在3～5μm波段硅基底上镀制a-C∶H膜具有良好的红外增透特性,薄膜峰值透射率明显受到Ar/CH4流量比的影响,Ar/CH4流量比1∶3时,制备的a-C∶H峰值透过率可达69.24%;a-C∶H薄膜的折射率和消光系数随着CH4流量的增加而增大;a-C薄膜的粗糙度要优于a-C∶H薄膜,a-C∶H薄膜的粗糙度随厚度的增加而变大.
弥谦王超惠迎雪张艳茹杭凌侠
关键词：非平衡磁控溅射光学性能
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