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国家重点实验室开放基金(2007DA10512711211)
作品数:
1
被引量:4
H指数:1
相关作者:
胡宝山
陈四国
齐学强
张骞
魏子栋
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相关机构:
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磁控溅射制备
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机构
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作者
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丁炜
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刘灿
1篇
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张骞
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1篇
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胡宝山
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年份
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2012
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磁控溅射制备Cu2O和Cu2O/TiO2复合膜及其光催化活性
被引量:4
2012年
采用直流反应磁控溅射的方法在普通玻璃上沉积得到Cu2O、TiO2和Cu2O/TiO2复合薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS)对薄膜的晶体结构、表面形态和薄膜元素组成进行了分析.XRD结果表明,当反应溅射时间为5 min时,Cu2O薄膜由单一的(111)晶面组成;反应时间的延长促进了Cu2O(110)和(220)晶面的生长.通过计算得出Cu2O(111)更有利于对O2的吸附.进一步使用氙灯作为光源,用薄膜对亚甲基蓝(MB)的降解率来表征光催化活性.结果表明,Cu2O/TiO2复合薄膜的光催化效果随着Cu2O含量的增加升高而后降低,当Cu2O含量为2.6mol%时,光催化活性最高.光催化效率的提高主要归因于Cu2O的加入引起光生电子-空穴的分离,而过量的Cu2O会延长光生电子迁移到Cu2O/TiO2界面和空穴迁移至表面所需要的时间,使电子和空穴复合的几率增大,从而降低了量子效率.
刘灿
魏子栋
张骞
胡宝山
齐学强
陈四国
丁炜
关键词:
磁控溅射
氧化亚铜
光催化
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