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国家自然科学基金(91023019)

作品数:3 被引量:18H指数:2
相关作者:王紫光高尚康仁科董志刚朱祥龙更多>>
相关机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国博士后科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域:金属学及工艺电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇单晶
  • 2篇单晶硅
  • 2篇粗糙度
  • 2篇亚表面
  • 1篇研磨盘
  • 1篇砂轮
  • 1篇去除率
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇磨削砂轮
  • 1篇金刚石
  • 1篇固结
  • 1篇硅片
  • 1篇刚石
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇材料去除机理
  • 1篇材料去除率

机构

  • 3篇大连理工大学

作者

  • 3篇高尚
  • 3篇王紫光
  • 2篇康仁科
  • 1篇朱祥龙
  • 1篇郭东明
  • 1篇董志刚
  • 1篇周平

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇金刚石与磨料...
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
固结金刚石研磨盘加工蓝宝石基片的磨削性能研究被引量:8
2016年
通过蓝宝石基片磨削试验研究了陶瓷结合剂、树脂结合剂和陶瓷树脂复合结合剂制备的固结金刚石研磨盘磨削工件的材料去除率、表面粗糙度和磨盘自锐性能,确定了磨削性能最佳的金刚石研磨盘结合剂,在此基础上,进一步研究了W40、W20、W7和W2.5金刚石研磨盘磨削蓝宝石基片的材料去除率、表面粗糙度、表面/亚表面损伤及其材料去除机理,提出依次采用W40金刚石研磨盘粗磨、W7金刚石研磨盘半精磨和W2.5金刚石研磨盘精磨的蓝宝石基片高效低损伤磨削新工艺。结果表明,陶瓷树脂复合结合剂制备的固结金刚石研磨盘磨削蓝宝石基片的综合性能最好,随着磨料粒径的减小,磨削蓝宝石基片的表面材料去除方式从脆性断裂去除向塑性流动去除转变,同时蓝宝石基片的材料去除率、表面粗糙度和亚表面损伤深度也随之减小。
林智富高尚康仁科王紫光耿宗超
关键词:材料去除率材料去除机理
硅片低损伤磨削砂轮及其磨削性能被引量:9
2017年
针对传统金刚石砂轮磨削硅片存在的表面/亚表面损伤问题,研制了一种用于硅片化学机械磨削加工的新型常温固化结合剂软磨料砂轮。根据化学机械磨削加工原理和单晶硅的材料特性,设计的软磨料砂轮以氧化铈为磨料,二氧化硅为添加剂,氯氧镁为结合剂。研究了软磨料砂轮的制备工艺,分析了软磨料砂轮的微观组织结构和成分。通过测量加工硅片的表面粗糙度、表面微观形貌和表面/亚表面损伤,进一步研究了软磨料砂轮的磨削性能。最后,与同粒度金刚石砂轮磨削和化学机械抛光(CMP)加工的硅片进行了对比分析。结果表明,采用软磨料砂轮磨削的硅片其表面粗糙度Ra<1nm,亚表面损伤仅为深度<30nm的非晶层,远好于金刚石砂轮磨削硅片,接近于CMP的加工水平,实现了硅片的低损伤磨削加工。
王紫光高尚朱祥龙董志刚康仁科
关键词:单晶硅表面粗糙度
磨削速度和压力对单晶硅去除特性的影响被引量:1
2016年
为研究单晶硅磨削损伤,使用金刚石磨块在不同磨削速度和压力下对单晶硅表面进行高速划擦试验,金刚石的粒度尺寸为38~45μm。通过测量硅片表面粗糙度、亚表面损伤深度和材料去除率,研究磨块的磨削速度和压力对材料去除特性的影响规律。结果表明:相同压力时,材料去除率随磨削速度增加呈先增大后减小的趋势,亚表面损伤深度逐渐变小;随法向压力增大,亚表面损伤深度变化不明显;在5N压力下,表面粗糙度值Ra变化明显,由6.4μm减小到3.2μm;而10N压力下,Ra无明显变化。
于月滨王紫光周平高尚郭东明
关键词:单晶硅粗糙度去除率
共1页<1>
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