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国家自然科学基金(91023016)

作品数:3 被引量:8H指数:2
相关作者:郭丹李静楠王元元司丽娜雒建斌更多>>
相关机构:清华大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划创新研究群体科学基金更多>>
相关领域:机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇动力学
  • 1篇动力学模拟
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇石蜡
  • 1篇石蜡油
  • 1篇试验机
  • 1篇团簇
  • 1篇轴承
  • 1篇轴承试验
  • 1篇轴承试验机
  • 1篇摩擦力
  • 1篇硅团簇
  • 1篇非极性
  • 1篇分子
  • 1篇分子动力学
  • 1篇分子动力学模...
  • 1篇SURFAC...
  • 1篇WEAK

机构

  • 2篇清华大学

作者

  • 2篇郭丹
  • 1篇雒建斌
  • 1篇司丽娜
  • 1篇王元元
  • 1篇李静楠

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇Scienc...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
3 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
氧化硅团簇切削单晶硅粗糙峰的分子动力学模拟研究
2012年
应用分子动力学模拟方法研究了氧化硅团簇在不同的切削深度下切削单晶硅粗糙峰的过程,考察了切削过程中粗糙峰和氧化硅团簇形态变化、团簇的受力状况、粗糙峰原子配位数和温度分布等.模拟结果表明:切削深度小于0.5 nm时,被去除的材料以原子或者原子簇形式存在,并黏附在颗粒表面被带走;当切削深度增大至1 nm,材料的去除率增大,并形成大的切屑.在切削过程中,由于压力和温度的升高,粗糙峰切削区域的单晶硅转变为类似Si-Ⅱ相和Bct5-Si相的过渡结构,在切削过程后的卸载阶段,过渡结构由于压力和温度的下降转变为非晶态结构.
司丽娜郭丹雒建斌
关键词:单晶硅分子动力学模拟超精密加工
Damages on the lubricated surfaces in bearings under the influence of weak electrical currents被引量:4
2013年
A special bearing tester was constructed to investigate the damage behavior on the lubricated surfaces in bearings with the passage of weak electrical currents as low as^1 mA.The results showed that when polar glycerine was used as the lubricant,many narrow and deep pits formed on the lubricated surfaces.In contrast,when the experimental conditions under the lubrication of the nonpolar paraffin oil were close to those under the lubrication of polar glycerine oil,damages on the lubricated surfaces were unobvious.Emergence of microbubbles in polar lubricants with the passage of electrical currents was proposed to be responsible for the observed damages on the lubricated surfaces.
XIE GuoXinLUO JianBinGUO DanLIU ShuHaiLI Gang
关键词:轴承试验机非极性石蜡油
Effect of polyalkylene glycols(PAGs) on the copper chemical mechanical polishing(CMP)
<正>Introduction Chemical mechanical polishing(CMP) was invented in the early 1980s at IBM and has become a sta...
Dai Y J
文献传递
基于原子力显微镜的纳米抛光颗粒的摩擦力测量方法被引量:4
2012年
基于原子力显微镜接触模式,使用侧向力扫描测量单个纳米颗粒与基底表面的摩擦力,从而为颗粒从基底表面去除提供最为直接的测试方法。对硅片表面进行羟基化增强其亲水性,将聚苯乙烯纳米颗粒单层均匀地分散到硅片上。使用横向力模式和NanoMan两种方法侧向推动纳米颗粒,测得单个颗粒与硅片表面之间的最大静摩擦力分别为(1.57±0.09)μN和(1.51±0.13)μN,试验结果基本一致,表明这两种测量方法可靠有效。此外,NanoMan可控制针尖推动单个颗粒在基底表面做滑移运动,表明颗粒-基底的滑动摩擦力与针尖施加载荷和扫描速度密切相关。
李静楠郭丹王元元
关键词:原子力显微镜摩擦力
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