陕西省科学技术研究发展计划项目(2011KW-05)
- 作品数：1 被引量：10H指数：1
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- 相关领域：理学更多>>
- 激光预处理对HfO_2薄膜损伤特性的影响被引量：10
- 2013年
- 研究了在1-on-1情况下,采用不同激光能量对HfO2薄膜进行预处理后,薄膜的光学特性、损伤阈值以及损伤形貌变化的机理。实验采用阈值能量的10%、30%、50%、70%对薄膜进行1-on-1预处理,经过预处理后的薄膜表面粗糙度平均从2.62nm降低到2.41nm。随着能量阶的提升,激光预处理后薄膜在1064nm处的透射率与预处理前相比均有所增大。激光损伤阈值先增后降,30%能量预处理的薄膜损伤阈值最高,达到了26.86J/cm2,增幅为56%。对比预处理前后的损伤形貌可知,30%能量预处理后薄膜在140mJ能量下,损伤深度由预处理前的98nm减小到了30nm,损伤斑个数由预处理前的5个减少到了预处理后的1个。实验结果表明:膜内杂质缺陷是导致HfO2薄膜阈值降低的因素,低能量的激光预处理薄膜有消除杂质缺陷,平整、固化膜层的作用,因而可以有效地提高薄膜的激光损伤阈值。
- 杨利红王涛苏俊宏韩锦涛
- 关键词：激光预处理粗糙度
