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哈尔滨市科技创新人才研究专项资金(2006RFXXS012)

作品数:7 被引量:29H指数:4
相关作者:杨士勤田修波巩春志朱宗涛张欣盟更多>>
相关机构:哈尔滨工业大学更多>>
发文基金:哈尔滨市科技创新人才研究专项资金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇射频
  • 3篇高压脉冲
  • 2篇电源
  • 2篇系统研制
  • 2篇脉冲射频
  • 2篇聚酯
  • 2篇抗菌
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇等离子体增强...
  • 1篇电特性
  • 1篇多层膜
  • 1篇射频功率
  • 1篇水性
  • 1篇筒状
  • 1篇亲水性
  • 1篇微弧氧化
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多层膜
  • 1篇内壁
  • 1篇接枝

机构

  • 8篇哈尔滨工业大...

作者

  • 8篇田修波
  • 8篇杨士勤
  • 7篇巩春志
  • 3篇朱宗涛
  • 1篇曹珍恩
  • 1篇韦春贝
  • 1篇田雷
  • 1篇李景
  • 1篇郭芳威
  • 1篇张欣盟

传媒

  • 3篇真空科学与技...
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇物理学报
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2011
  • 3篇2010
  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
7 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
约束阴极微弧氧化放电特性研究被引量:8
2010年
利用Na2SiO3-KOH溶液体系,以工业纯铝为基体材料对约束阴极微弧氧化的放电特性进行了研究.考察了恒压模式下电极距离对氧化电流、电位分布及起弧电压的影响,并对电极距离与微弧氧化电能利用率间的关系进行了分析.结果表明:对于阴阳极等约束条件下,随阴阳极距离加大,工作电流逐渐减小.而对于仅约束阴极情况,工作电流随着阴阳极间距增加而增大.这是由于增加阴阳极间距时,虽然约束阴极正下方试样表面的电场强度降低,工作电流减小,但远离约束电极处,阳极表面电场强度却增加,工作电流增大.起弧电压随电极间距离的增大而升高,但阳极表面电场强度几乎保持不变.微弧氧化陶瓷层厚度由处理中心沿半径向外逐渐变薄,且中心处陶瓷膜厚度随电极距离的增大迅速减小,电能利用率随之降低.
张欣盟田修波巩春志杨士勤
关键词:微弧氧化放电特性
利用射频与高压直接耦合等离子体注入进行不锈钢表面改性被引量:1
2008年
介绍了一种新的等离子体离子注入在不锈钢表面改性上的应用。将高压脉冲和射频脉冲直接耦合到工件上,不需外部等离子体源,利用工件自身加射频产生等离子体,随后施加高压对不锈钢表面进行了注氮处理。XPS分析显示,在基体表面有氮元素存在,说明实现了射频与高压直接耦合的离子注入效果。进一步研究表明,等离子体离子注入后,在不锈钢基体表层形成了Cr2O3以及CrN,FeN等硬质相,因此处理后的试件耐摩擦、磨损和耐腐蚀性能得到了较大提高。同时研究显示,射频脉冲宽度或射频与高压相位的改变对摩擦系数影响不大。
巩春志田修波杨士勤
关键词:射频不锈钢
脉冲射频/40kV高压直接耦合等离子体离子注入电源系统研制
2011年
研制的用于等离子体浸没离子注入(PIII)的电源系统采用高压隔离与高频滤波技术,将40 kV高压脉冲电源与13.56 MHz射频电源直接耦合,由单一输出电缆连接到实验靶台上,通过射频与高压脉冲的时序控制,实现了40 kV的高压脉冲与脉冲射频交替输出。工作过程中,通过射频产生等离子体,而后施加高压脉冲获得离子注入,进而实现PIII与沉积。该电源系统的性能指标为:高压脉冲电压幅值10-40 kV,脉冲频率10-1000 Hz,射频脉冲宽度0.01-10 ms,射频与高压间隔0.1-10 ms,高压脉冲功率6 kW,射频脉冲功率1 kW。实验研究表明能够有效的实现PIII。本文将介绍该种新电源的设计思想、电路以及在内凹零部件(如管筒内壁)等离子体离子注入等方面的应用。
巩春志田修波朱宗涛杨士勤
关键词:脉冲射频高压脉冲
10kV等离子体表面改性高压脉冲电源被引量:6
2007年
研制的10kV高压脉冲电源采用脉冲单元叠加技术,将12组相互独立的各脉冲单元模块串联起来,采用同步驱动技术,实现了10kV的高压脉冲输出。可通过增减脉冲单元的数量,满足不同输出电压的需要,实现了模块化设计。该电源的性能指标为:脉冲电压幅值0.1~10.0kV,脉冲频率0.2~2.0kHz,脉冲占空比5%~30%,脉冲电流幅值20A,脉冲功率200kW。试验结果表明:在等离子体负载条件下电源运行稳定、可靠。
巩春志田修波曹珍恩朱宗涛杨士勤
关键词:高压脉冲电源
脉冲射频与40kV脉冲高压直接耦合新电源系统研制
研制的用于等离子体浸没离子注入的电源系统采用高压隔离与高频滤波技术,将40kV 高压脉冲电源与13.56MHz 射频电源直接耦合,由单一输出电缆连接到实验靶台上,通过射频与高压脉冲的时序控制,实现了30kV 的高压脉冲与...
田修波巩春志朱宗涛杨士勤
关键词:脉冲射频高压脉冲
文献传递
射频功率对筒状聚酯内壁类金刚石薄膜结构与性能的影响研究被引量:5
2010年
利用偏压/射频耦合等离子体增强化学气相沉积技术在聚对苯二甲酸乙二醇酯(简称聚酯,PET)筒内壁制备了类金刚石薄膜(DLC)。采用X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、三维表面轮廓仪、紫外/可见光分光光度计和气体渗透率测试仪考察了射频功率对类金刚石薄膜的结构、沉积速率、表面形貌、光学透过率和气体阻隔性能的影响。结果表明,膜层沉积可有效阻挡近紫外区域的光线,同时对O2,CO2的阻隔能力明显提高,这是由于DLC膜层的致密性质以及PET表面原有缺陷的覆盖。与未镀膜PET相比,150 W时制备的DLC膜的气体透过率分别从58.5,61.7cm3m-2atm-1d-1降低至0.7,1.5 cm3m-2.atm-1d-1,相应的对O2,CO2的阻隔率分别可以提高80倍和40倍。
李景田雷田修波巩春志杨士勤
关键词:等离子体增强化学气相沉积类金刚石薄膜射频功率
磁控溅射TiN/Cu-Zn纳米多层膜腐蚀和抗菌性能研究被引量:7
2010年
采用双靶磁控溅射的方法在不锈钢表面沉积了TiN/Cu-Zn纳米多层膜,研究了多层结构对膜层耐腐蚀性能和抗菌性能的影响,以及表面腐蚀与抗菌的关系。结果表明,Cu-Zn层比较薄时,膜层的耐腐蚀性能比较好,随着Cu-Zn层厚度的增加耐腐蚀性能显著下降。Cu-Zn层薄时,膜层抗菌性能对TLN层厚度较为敏感;而当Cu-Zn层较厚时,抗菌性能对TiN层厚度不敏感,均具有较好的抗菌性能。存在合适的多层结构,如TIN层厚度为3.3~5nm左右,Cu-Zn层厚度约为4nm时,使得膜层具有良好的抗菌性能和耐腐蚀性能。
韦春贝巩春志田修波杨士勤
关键词:磁控溅射抗菌性能
氧等离子体注入对PET亲水性及抗菌性能影响被引量:2
2009年
利用氧等离子体浸没离子注入技术对聚合物材料(PET)进行表面改性后接枝有机抗菌剂赋予PET薄膜抗菌性能.试验结果表明:PET薄膜表面接枝上的抗菌剂在改性表面呈针状分布.经氧等离子体处理后的PET薄膜表面水接触角从78°降低到33°.红外光谱显示PET薄膜表面的分子结构被破坏,苯环的对位氢发生取代反应,分子链中形成了C-O亲水基团.氧等离子体的注入时间和注入电压均对抗菌持久性有重要的影响,较高的注入电压能够使PET薄膜表面获得较深的改性层,利于改性表面亲水性的保持.注入时间超过10min,电压超过-10kV的样品在空气中放置40天后的抗菌率仍能达到90%以上.
郭芳威田修波杨士勤
关键词:聚酯薄膜接枝抗菌
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