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教育部科学技术研究重点项目(208093)

作品数:3 被引量:3H指数:1
相关作者:舒适王俊仙胡齐芽李明军郑秋云更多>>
相关机构:湘潭大学中国科学院数学与系统科学研究院更多>>
发文基金:教育部科学技术研究重点项目国家自然科学基金湖南省研究生科研创新项目更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学

主题

  • 1篇有限元
  • 1篇预条件
  • 1篇预条件子
  • 1篇润滑
  • 1篇润滑模型
  • 1篇收敛率
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光液
  • 1篇线性元
  • 1篇晶片
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇鞍点
  • 1篇鞍点问题
  • 1篇UZAWA算...
  • 1篇CMP
  • 1篇DDM
  • 1篇LEC
  • 1篇MAXWEL...
  • 1篇磁流体

机构

  • 3篇湘潭大学
  • 2篇中国科学院数...

作者

  • 3篇舒适
  • 2篇胡齐芽
  • 2篇王俊仙
  • 1篇郑秋云
  • 1篇李明军

传媒

  • 1篇计算数学
  • 1篇力学学报
  • 1篇数值计算与计...

年份

  • 2篇2010
  • 1篇2009
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
求解Maxwell线性元鞍点系统的基于HX预条件子的Uzawa算法
2009年
首先对含跳系数的H^1型和H(curl)型椭圆问题的线性有限元方程,分别设计了基于AMG预条件子和基于节点辅助空间预条件子(HX预条件子)的PCG法.数值实验表明,算法的迭代次数基本不依赖于系数跳幅和离散网格"尺寸".然后以此为基础,对Maxwell方程组鞍点问题的第一类Nedelec线性棱元离散系统设计并分析了一种基于HX预条件子的Uzawa算法.当系数光滑时,理论上证明了算法的收敛率与网格规模无关.数值实验表明,新算法对跳系数情形也是高效和稳定的.
王俊仙胡齐芽舒适
关键词:鞍点问题UZAWA算法收敛率
考虑对流效应和磁场的CMP模型及其数值模拟被引量:1
2010年
推导了具有对流效应的化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)润滑模型,研究各参数对压力场分布的影响.在此模型基础上,研究了磁流体抛光液在外界磁场作用下的润滑模型,以及外磁场对抛光过程中压力场分布的影响.数值结果表明,具有对流效应的润滑模型的压力分布与已有经验结果更一致,能更为有效地解释CMP过程中的负压现象;进一步通过外界磁场的作用,可以有效地改变磁流体CMP的压力分布,这为实现对晶片的全局抛光提供了一种可供参考的新途径.
郑秋云李明军舒适
关键词:化学机械抛光润滑模型磁流体晶片
一种求解H(curl)型椭圆问题的非重叠DDM预条件子被引量:2
2010年
本文对一类H(curl)型椭圆问题的线性棱有限元方程,构造了一种具有简单粗空间的非重叠区域分解型预条件子.在系数为常数的情形下,严格证明了相应的预条件系统的条件数为O(log^2 d/n),即是渐近最优的.数值实验验证了理论结果的正确性,并说明该预条件子对大跳系数的情形也是有效的.
王俊仙胡齐芽舒适
关键词:预条件子
共1页<1>
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