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国家自然科学基金(41173124)

作品数：1 被引量：5H指数：1
相关作者：卫蓉贺与平何素芳单云刘春侠更多>>
相关机构：昆明理工大学更多>>
发文基金：云南省应用基础研究基金云南省科技条件平台建设计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电感耦合
  • 1篇电感耦合等离...
  • 1篇电感耦合等离...
  • 1篇质谱
  • 1篇质谱法
  • 1篇子体
  • 1篇离子
  • 1篇工业硅
  • 1篇痕量
  • 1篇痕量硼
  • 1篇磷
  • 1篇硼

机构

  • 1篇昆明理工大学

作者

  • 1篇熊敏
  • 1篇刘春侠
  • 1篇单云
  • 1篇何素芳
  • 1篇贺与平
  • 1篇卫蓉

传媒

  • 1篇光谱实验室

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
电感耦合等离子体-质谱法测定工业硅中的痕量硼和磷被引量：5
2012年
建立电感耦合等离子体-质谱法(ICP-MS)测定工业硅中痕量B和P的分析方法。采用HF-HNO3混合酸处理样品,对仪器工作参数进行优化,以Rh为校正内标,有效克服了基体效应及多元素分子离子干扰。分析结果表明,方法的检出限为:B为2.0μg.L-1、P为8.5μg.L-1,B和P的加标回收率分别为:97.2%—103.6%、95.2%—102.8%,精密度分别为2.6%、3.5%。方法可准确、快速测定工业硅中痕量元素B和P。
刘春侠何素芳贺与平卫蓉单云熊敏
关键词：电感耦合等离子体-质谱法工业硅硼磷
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共1页<1>
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