您的位置： 专家智库 > >

表面工程技术国家级重点实验室基金

作品数：34 被引量：163H指数：6
相关作者：陈焘罗崇泰王多书刘宏开熊玉卿更多>>
相关机构：中国科学院兰州物理研究所兰州大学大连理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金兰州交通大学“青蓝”人才工程基金中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
相关领域：理学电子电信一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 34篇期刊文章
  • 6篇会议论文

领域

  • 23篇理学
  • 10篇一般工业技术
  • 6篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇电气工程

主题

  • 12篇溅射
  • 12篇光学
  • 10篇磁控
  • 9篇磁控溅射
  • 6篇电致变色
  • 5篇应力
  • 4篇滤光片
  • 4篇光学薄膜
  • 4篇红外
  • 4篇薄膜应力
  • 4篇AL
  • 3篇电池
  • 3篇太阳能电池
  • 3篇退火
  • 3篇热控
  • 3篇离子束
  • 3篇离子束辅助
  • 3篇离子束辅助沉...
  • 3篇晶体
  • 3篇光学系统

机构

  • 32篇中国科学院兰...
  • 4篇兰州大学
  • 3篇大连理工大学
  • 2篇兰州交通大学
  • 2篇兰州空间技术...
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇运城学院
  • 1篇中国空间技术...

作者

  • 17篇陈焘
  • 11篇罗崇泰
  • 11篇王多书
  • 8篇刘宏开
  • 8篇邱家稳
  • 6篇何延春
  • 6篇吴春华
  • 6篇马锋
  • 6篇熊玉卿
  • 6篇盖志刚
  • 5篇王洁冰
  • 5篇张平
  • 4篇赵印中
  • 4篇许旻
  • 4篇叶自煜
  • 4篇王济洲
  • 3篇张佰森
  • 3篇冯煜东
  • 3篇赵慨
  • 3篇陈学康

传媒

  • 17篇真空与低温
  • 4篇真空科学与技...
  • 2篇原子与分子物...
  • 2篇材料导报
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇太阳能学报
  • 1篇光学学报
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇大连理工大学...
  • 1篇半导体光电
  • 1篇信息记录材料
  • 1篇沈阳师范大学...
  • 1篇材料导报（纳...
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 2篇2012
  • 5篇2011
  • 7篇2010
  • 15篇2009
  • 9篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
共 34 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
衬底温度对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：4
2010年
采用直流磁控反应溅射法,分别在室温,200,300,400和500℃下制备了HfO2薄膜。利用X射线衍射(XRD)、椭圆偏振光谱(SE)和紫外可见光谱(UVvis)研究了衬底温度对HfO2薄膜的晶体结构和光学性能的影响。XRD研究结果显示:不同衬底温度下制备的HfO2薄膜均为单斜多晶结构;随衬底温度的升高,(-111)面择优生长更加明显,薄膜中晶粒尺寸增大。SE和UVvis研究结果表明:随衬底温度升高,薄膜折射率增加,光学带隙变小;制备的HfO2薄膜在250～850nm范围内有良好的透过性能,透过率在80%以上。
赵海廷马紫微李健刘利新张洪亮谢毅柱苏玉荣谢二庆
关键词：衬底温度晶体结构直流磁控反应溅射光学带隙
一种长波红外宽光谱长波通滤光片的优化设计被引量：3
2010年
长波红外宽光谱长波通滤光片是光谱成像技术中重要的光学元件。论述了设计长波红外宽光谱长波通滤光片的设计原则和方法,并对这种长波红外宽光谱长波通滤光片优化设计进行了研究。根据等效折射率理论,以周期性对称膜系为基础,使用压缩透射区内波纹幅度的部分膜层优化方法,设计了满足性能指标要求的长波红外长波通滤光片。经过优化,所设计的长波红外宽光谱长波通滤光片,高透射波段内平均透射率大于90%,最低透射率高于85%;截止波段内平均透射率小于1%,最高透射率低于5%。研究表明,用部分膜层优化方法设计的膜系,膜层结构简单,有利于膜层厚度的监控,既能克服全自动优化方法给工艺上带来的困难,又弥补了解析法设计膜系时不能调整光谱特性的不足。
张佰森陈焘熊玉卿
关键词：红外
SiC薄膜材料理论模拟研究的动态被引量：1
2010年
SiC因其宽的禁带宽度、高的电子饱和速度、大的临界击穿场强、高的热导率和热稳定性等特性而成为制作高频、大功率和耐高温器件的理想材料。综述了SiC材料的理论研究现状和发展趋势,并对研究方法和结果进行了简要的评述。
盖志刚罗崇泰陈焘张平
关键词：SIC材料
溅射气压对HfO_2薄膜结构和光学性能的影响被引量：3
2012年
HfO2薄膜的结构和光学性能与反应溅射时使用的气压有很强的依赖关系。薄膜的晶粒生长取向、生长速率和折射率明显受溅射气压的影响。所有的薄膜均为单斜相,晶粒尺寸在纳米量级。薄膜的折射率在1.92～2.08范围内变化,透过率大于85%。结果表明,这些HfO2薄膜很适宜用作增透膜或者高反膜。此外,通过Tauc公式推出光学带隙在5.150～5.433eV范围内变化,表明样品是良好的绝缘体。
马紫微苏玉荣谢毅柱赵海廷刘利新李健谢二庆
空间充气膨胀展开结构的可控刚化技术被引量：6
2009年
刚化技术是空间充气膨胀展开结构的一项关键技术。Adherent Technologies有限公司的技术人员首次提出了"可控刚化"(Rigidization On Command-ROC)技术概念,利用此技术ILC Dover公司制造了空间充气膨胀展开结构的示范支撑管件。和传统的刚化技术相比可控刚化技术有许多优点,此技术可控、清洁,适用于空间的特殊环境。作者对空间充气膨胀展开结构刚化技术、可控刚化技术、可控刚化技术所用材料和紫外光(UV)固化复合材料进行了简单介绍。可控刚化技术可靠性高,固化后复合材料的机械性能好,为空间充气可膨胀展开结构提供一种急需的刚化技术,能满足充气膨胀展开结构多项任务的需要。
王新伟任妮王多书钟彦冯利邦李菲菲
关键词：紫外光固化阳离子光引发剂
碳化硅薄膜制备方法及光学性能的研究进展被引量：6
2009年
碳化硅薄膜有密度小、热导率高、热膨胀系数低、硬度高等优异的性能。介绍了制备碳化硅薄膜的2种常用方法,即化学气相沉积和磁控溅射技术,比较了2种方法的各自优势。总结了碳化硅薄膜光学性能及短波发光特性的研究进展。
张平罗崇泰陈焘盖志刚
关键词：碳化硅薄膜化学气相沉积磁控溅射光学性能
DC磁控溅射沉积WO_3电致变色薄膜
2008年
采用直流磁控反应溅射工艺制备了WO_3薄膜,在初始状态和注入Li离子后的平均透射率分别为83%和6%,变化接近77%,表明该WO_3薄膜样品具有很好的电致变色性能。根据薄膜的透射率和反射率分别计算了WO_3薄膜的光学带隙:非晶WO_3薄膜的带隙为3.31eV,多晶WO_3薄膜的带隙为3.22eV。
何延春吴春华邱家稳
关键词：WO3电致变色光学带隙
用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质被引量：2
2009年
利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数。论述了其在激光直写灰度掩模中的应用。
马锋王多书罗崇泰叶自煜刘宏开王济州
关键词：磁控溅射激光直写灰度掩模
鎓盐类阳离子聚合光引发剂的研究进展被引量：5
2010年
碘鎓盐和硫鎓盐是最重要的和应用最广泛的阳离子聚合光引发剂。本文介绍了几种典型的碘鎓盐和硫鎓盐及其引发机理,并就碘鎓盐和硫鎓盐在增加光引发剂的光敏性、增加光引发剂在光引发阳离子聚合体系中的组分相容性以及在阳离子光引发剂中引入自由基等方面的发展状况进行了综述。
钟彦王新伟王顺花冯利邦李菲菲
关键词：光敏性
晶界对AlGaN薄膜紫外探测器时间响应特性的影响被引量：1
2010年
持续光电导(PPC)现象是影响AlxGa1-xN薄膜紫外探测器探测快速变化信号的一个不利因素,它的存在会大大延长探测器的响应时间。文章讨论了晶界对AlxGa1-xN薄膜紫外探测器时间响应性能的影响。实验结果表明,制作在高晶界密度薄膜上的紫外探测器表现出显著的PPC现象,而制作在低晶界密度薄膜上的紫外探测器则具有较快的时间响应,PPC现象明显减弱。这表明存在于晶界的缺陷可能是导致PPC现象的主要原因。通过提高薄膜结晶质量、降低薄膜晶界密度,可大大改善探测器的时间响应特性。
王兰喜陈学康王瑞曹生珠
关键词：紫外探测器晶界
全选 清除 导出
共4页<1234>
聚类工具0