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国家自然科学基金(5110586)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：陈娣杨华魏智强王琼姜金龙更多>>
相关机构：学研究院兰州理工大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电子能
  • 1篇电子能谱
  • 1篇氩离子
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米复合薄膜
  • 1篇光电子能谱
  • 1篇TI-SI
  • 1篇XPS分析
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...

机构

  • 1篇兰州理工大学
  • 1篇学研究院

作者

  • 1篇姜金龙
  • 1篇王琼
  • 1篇魏智强
  • 1篇杨华
  • 1篇陈娣

传媒

  • 1篇稀有金属材料...

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
氩离子溅射刻蚀对Ti-Si-C纳米复合薄膜XPS分析的影响被引量：1
2014年
通过中频非平衡磁控溅射Ti80Si20复合靶在氩气和甲烷混合气氛中沉积Ti-Si-C复合薄膜。采用X射线衍射仪、Raman光谱和X射线光电子能谱分析薄膜微结构。结果显示:制备的薄膜为非晶碳(a-C:Si:H)包裹约10 nm TiC晶粒的复合结构,氩离子溅射刻蚀对XPS分析结果有显著影响。随氩离子刻蚀溅射刻蚀时间增加,薄膜表面C、O原子含量明显降低,而Ti、Si原子含量增加。氩离子溅射刻蚀导致薄膜非晶碳相发生石墨化转变,即sp3C-C(H)/sp2C-C比率减小,同时,C-Ti*/C-Ti和C-(Ti+Ti*)/C-C强度比明显增加。
姜金龙陈娣王琼杨华魏智强
关键词：X射线光电子能谱
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共1页<1>
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