您的位置： 专家智库 > >

“十一五”国家科技支撑计划(2006BADSA01-18)

作品数：1 被引量：3H指数：1
相关作者：高德林晶孙智慧刘壮更多>>
相关机构：哈尔滨商业大学印刷包装材料与技术北京市重点实验室更多>>
发文基金：北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室开放课题基金“十一五”国家科技支撑计划更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氧化铝薄膜
  • 1篇溅射
  • 1篇PET
  • 1篇SUB
  • 1篇AL
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇O

机构

  • 1篇哈尔滨商业大...
  • 1篇印刷包装材料...

作者

  • 1篇刘壮
  • 1篇孙智慧
  • 1篇林晶
  • 1篇高德

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
负偏压对PET上磁控溅射氧化铝薄膜的影响被引量：3
2009年
以PET(对苯二甲酸已二醇脂)为基体,采用磁控溅射方法在其上制备Al_2O_3阻隔膜,研究负偏压对基体温度、镀膜表面形貌和镀膜化学成份的影响。研究表明,基体温度随着负偏压的增加而升高;Al_2O_3薄膜的表面形貌随着负偏压的增加粗糙度显著降低。XPS分析表明薄膜是满足化学成分配比的Al_2O_3,而且薄膜的成分在较大的负偏压的范围内保持稳定;适当的负偏压有利于提高薄膜的阻隔性。
林晶刘壮孙智慧高德
关键词：磁控溅射
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0