贵州省自然科学基金(20033059)
- 作品数：5 被引量：5H指数：2
- 相关作者：张晋敏余平田华任雪勇曾武贤更多>>
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- 制备参数对TbFeCo磁光薄膜性能的影响被引量：3
- 2011年
- 对采用磁控溅射制备TbFeCo/Si、Ag/TbFeCo/Si系列薄膜的溅射工艺进行了研究,分析了TbFeCo薄膜的生长机理,并对其光学性质、磁性质和磁光性质进行了分析。实验结果表明,不同压强对TbFeCo薄膜的成分比有明显的影响,确定了工作压强为2.0 Pa是适合的,这时制备的薄膜的成分原子比和靶的原子比最接近。用全自动椭圆偏振光谱仪测量了TbFeCo薄膜在1.5~4.5eV的椭偏光谱,结果表明,随着工作气压、溅射功率和Ar气流量的变化,薄膜的光学性质均发生明显变化。对制备的Ag/TbFeCo/Si和TbFeCo/Si磁光薄膜的磁光性质进行了分析,结果表明,Ag保护膜对TbFeCo磁光薄膜的磁光性质会产生显著影响。
- 张勇张晋敏田华
- 关键词：磁控溅射椭偏光谱光学常数
- Ag保护层对TbFeCo磁光薄膜光学性质的影响
- 2007年
- 用直流磁控溅射法制备出Ag/TbFeCo/Si(100)磁光薄膜。利用可变入射角椭圆偏振光谱仪测量了其可见光区的光学常数,给出薄膜介电函数实部和虚部随入射光子能量的变化规律,结果与经典的Drude模型相一致。同时把Ag/Si、Ag/TbFeCo/Si和TbFeCo/Si的光谱进行了比较,结果表明,由于Ag的高反射率,Ag/TbFeCo/Si的光谱更接近Ag。
- 余平任雪勇梁艳曾武贤张晋敏
- 关键词：椭偏光谱
- 磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究
- 采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介...
- 张晋敏郜小勇李晶周鹏郑玉祥王松有张冬青陈良尧
- 关键词：磁光薄膜椭偏光谱
- 文献传递
- 溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响
- 利用直流磁控溅射制备了 TbFeCo/Si 薄膜, 采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,测量了用磁控溅射法制备的 TbFeCo/Si 薄膜的光学常数,测量能量范围为1．5～4．5eV．分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的 ...
- 张勇张晋敏余平田华
- 关键词：磁控溅射椭偏光谱光学常数
- 文献传递
- 保护层Ag对Ag/TbFeCo光学性质的影响
- 2007年
- 磁光记录介质非晶稀土-过渡金属合金TbFeCo薄膜覆盖Ag保护层可减小稀土元素的氧化且能增强其磁光克尔效应。利用直流磁控溅射法制备出Ag/TbFeCo／Si(100)磁光薄膜,利用可变入射角椭圆偏振光谱仪测量了其可见光区的光学常数,给出薄膜介电函数实部和虚部随入射光子能量的变化规律,同时把Ag／Si、Ag／TbFeCo／Si和TbFeCo／Si的光谱进行了比较。实验结果与经典的Drude模型相一致,而且Ag／TbFeCo／Si的光谱更接近Ag。不同厚度Ag/TbFeCo／Si薄膜其光学参数变化趋势相同,且随Ag厚度的增加变化幅度减小。
- 余平任雪勇梁艳曾武贤张晋敏
- 关键词：磁光薄膜椭偏光谱磁控溅射AG
- 溅射气压对TbFeCo磁光薄膜的光学常数的影响
- 2007年
- 利用直流磁控溅射制备了TbFeCo/Si薄膜，采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪，测量了用磁控溅射法制备的TbFeCo/Si薄膜的光学常数，测量能量范围为1．5～4．5eV。分析了不同氩气压强对磁控溅射制备的TbFeCo/Si磁光薄膜的光学常数的影响。实验结果表明，在低能区域，样品的所有光学常数均随压强增加而增加，受制备工艺影响较大。但在高能区域，光学常数随压强的变化相对说来不再明显．
- 张勇张晋敏余平田华
- 关键词：磁控溅射椭偏光谱光学常数
- 磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究被引量：2
- 2004年
- 采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜的光学性质有重要影响.用磁光Kerr谱仪,在室温下分别测量了TbFeCo薄膜的极向Kerr回线和横向Kerr回线,发现所制备TbFeCo薄膜不具有垂直磁化性质,而呈现出面内磁化性质.
- 张晋敏郜小勇李晶周鹏郑玉祥王松有张冬青陈良尧
- 关键词：磁光薄膜椭偏光谱
