上海市科委光科技专项(022261051)
- 作品数：2 被引量：12H指数：2
- 相关作者：邵建达易葵范正修尚淑珍沈健更多>>
- 相关机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：上海市科委光科技专项更多>>
- 相关领域：电子电信理学更多>>
- 退火对电子束热蒸发193nm Al_2O_3/MgF_2反射膜性能的影响被引量：9
- 2006年
- 设计并镀制了193nm Al2O3/MgF2反射膜,对它们在空气中分别进行了250—400℃的高温退火,测量了样品的透射率光谱曲线和绝对反射率光谱曲线.发现样品在高反射区的总的光学损耗随退火温度的升高而下降,而后趋于饱和.采用总积分散射的方法对样品在不同退火温度下的散射损耗进行了分析,发现随着退火温度的升高散射损耗有所增加.因此,总的光学损耗的下降是由于吸收损耗而不是散射损耗起主导作用.对Al2O3材料的单层膜进行了同等条件的退火处理,由它们光学性能的变化推导出它们的折射率和消光系数的变化,从而解释了相应的多层膜光学性能变化的原因.反射膜的反射率在优化联系、镀膜工艺与退火工艺的基础上达98%以上.
- 尚淑珍邵建达沈健易葵范正修
- 关键词：退火
- 退火对电子束热蒸发Al_2O_3薄膜性能影响的实验研究被引量：5
- 2005年
- 用电子束热蒸发方法镀制了Al2O3材料的单层膜,对它们在空气中进行了250～400℃的高温退火.对样品的透射率光谱曲线进行了测量,计算了样品的消光系数、折射率和截止波长.通过X射线衍射仪(XRD)测量分析了薄膜的微观结构,采用表面轮廓仪测量了样品的表面均方根粗糙度.结果发现随着退火温度的提高光学损耗下降,薄膜结构在退火温度为400℃时仍然为无定形态,样品的表面粗糙度随退火温度的升高而增加.引起光学损耗下降起主导作用的是吸收而不是散射,吸收损耗的下降主要是由于退火使材料吸收空气中的氧而进一步氧化,从而使薄膜材料的非化学计量比趋于正常.
- 尚淑珍廖春艳易葵张东平范正修邵建达
- 关键词：紫外退火微结构
