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国家自然科学基金(50772019)

作品数:9 被引量:8H指数:2
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文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

  • 6篇理学
  • 4篇电子电信
  • 1篇农业科学

主题

  • 8篇脉冲激光
  • 8篇脉冲激光沉积
  • 3篇脉冲激光沉积...
  • 3篇PLD
  • 2篇蓝宝
  • 2篇蓝宝石
  • 2篇蓝宝石衬底
  • 2篇半导体
  • 2篇PZT
  • 2篇衬底
  • 2篇磁性能
  • 1篇单片
  • 1篇单片集成
  • 1篇电学性能
  • 1篇电子信息系统
  • 1篇信息系统
  • 1篇射线衍射
  • 1篇生长介质
  • 1篇铁电
  • 1篇铁电薄膜

机构

  • 8篇电子科技大学

作者

  • 8篇朱俊
  • 7篇罗文博
  • 2篇廖秀尉
  • 2篇李扬权
  • 2篇李理
  • 2篇李言荣
  • 2篇张鹰
  • 2篇经晶
  • 1篇张菲
  • 1篇郝兰众
  • 1篇周玉棠
  • 1篇周立勋
  • 1篇王水力
  • 1篇丁关凤
  • 1篇周文

传媒

  • 5篇真空科学与技...
  • 2篇功能材料
  • 1篇压电与声光
  • 1篇Scienc...

年份

  • 6篇2010
  • 3篇2009
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
脉冲激光沉积法制备Pt薄膜的研究
2009年
采用脉冲激光沉积技术在(0001)取向的蓝宝石基片上外延生长了Pt单晶薄膜,研究了沉积温度和激光能量对Pt薄膜的晶体结构,表面形貌及电学性能的影响规律。X射线衍射(XRD)分析结果表明,在沉积温度650℃、激光脉冲频率1Hz和激光能量280mJ的条件下,制备得到的Pt(111)单晶薄膜,其(111)面ω摇摆曲线半高宽(FWHM)仅为0.068°。原子力显微镜(AFM)分析表明外延的Pt薄膜表面具有原子级平整度,其表面均方根粗糙度(RMS)约为1.776nm。四探针电阻测试结果显示薄膜方阻为1.962Ω/□,满足铁电薄膜的制备工艺对Pt底电极的要求。
李理朱俊李扬权经晶周文罗文博李言荣
关键词:电学性能表面形貌蓝宝石衬底
GaN基半导体上BiFeO_3薄膜的生长与性能研究被引量:1
2010年
采用脉冲激光沉积法在(0001)取向的GaN以及AlGaN/GaN调制掺杂结构上制备了(111)取向的BiFeO3(BFO)薄膜。首先在导电氧化物SrRuO3和TiO2缓冲层包覆的GaN上制备了BFO薄膜,分析了在GaN上生长的BFO薄膜的面外取向、外延关系、表面形貌以及电学性能等性质。然后,在AlGaN/GaN调制掺杂结构上采用TiO2缓冲层生长了BFO薄膜,并采用光刻工艺分别在AlGaN表面制备Ti/Al/Ti/Au欧姆电极和BFO表面制备Ni/Au肖特基电极以形成二极管结构。C-V测试表明,由于BFO铁电薄膜极化的作用,BFO/TiO2/AlGaN/GaN结构具有1 V左右的逆时针窗口。
罗文博朱俊廖秀尉
关键词:BIFEO3脉冲激光沉积X射线衍射
MgO缓冲层上钡铁氧体(BaFe_(12)O_(19))薄膜的制备与性能研究被引量:1
2010年
采用脉冲激光沉积(PLD)技术在(0006)取向的蓝宝石基片上,通过MgO缓冲层诱导生长了BaFe12O19(BaM)薄膜,研究了沉积温度对BaM薄膜的晶体结构和磁性能的影响规律。X射线衍射(XRD)分析结果表明,在激光脉冲频率6Hz、激光能量180mJ、MgO缓冲层的厚度50nm和沉积温度为750℃的条件下,制得的BaM薄膜c轴取向最好,其(0008)面的ω摇摆曲线半高宽(FWHM)仅为0.289°。扫描电子显微镜(SEM)结果显示此时薄膜的晶粒已有部分呈六角片状。振动样品磁强计(VSM)测试表明,在750℃时沉积的BaM薄膜面外饱和磁化强度为190A/m,剩磁比0.82,薄膜磁性能良好。
丁关凤朱俊王水力张菲罗文博
NFO/PZT复合磁电薄膜生长制备及性能的研究被引量:2
2009年
采用脉冲激光沉积(PLD)法,在制备有SrRuO3底电极的SrTiO3(001)基片上生长高质量的NiFe2O4/Pb(Zr0.52Ti0.48)O3双层复合磁电薄膜。用X-射线衍射(XRD)对复合薄膜的微结构进行详细表征,结果表明,复合薄膜中NiFe2O4、Pb(Zr0.52Ti0.48)O3结晶良好,且具有单一的面外取向,Φ扫描模式显示NiFe2O4、Pb(Zr0.52Ti0.48)O3均延SrTiO3(001)方向外延生长。磁电性能表征结果表明,由于界面应力效应的作用,复合薄膜的铁电性较单层Pb(Zr0.52Ti0.48)O3明显减弱,而铁磁性基本保持NiFe2O4的软磁特性。
朱俊周玉棠张鹰周立勋
关键词:铁酸镍锆钛酸铅
脉冲激光沉积制备外延Ni_(0.8)Zn_(0.2)Fe_2O_4薄膜的应变与磁性能研究
2010年
用脉冲激光沉积设备,分别在SrTiO3(001)(STO)和MgO(001)基片上外延生长了单层Ni0.8Zn0.2Fe2O4(NZF)薄膜。经X射线衍射分析,在STO和MgO基片上制备的NZF薄膜均为单一c取向的外延薄膜,由PHI扫描可知薄膜均为四重对称结构。由NZF薄膜的倒易空间图可以计算得到在STO和MgO基片上应变分别为0.0704和-0.0124。分别对不同基片上的NZF薄膜进行磁强计测量可得,在STO基片上沉积的NZF薄膜的面内和面外饱和磁化强度分别为269.6和224.78 emu/cm3,面内和面外的矫顽场分别为2.68×104和4.78×104A/m,在MgO基片上沉积的NZF薄膜的面内和面外饱和磁化强度分别为219.11和180.75 emu/cm3,面内和面外的矫顽场分别为3.46×104和5.32×104A/m。
李扬权朱俊罗文博
关键词:脉冲激光沉积饱和磁化强度矫顽场
Controllable growth of dielectric/semiconductor integrated films被引量:1
2009年
Currently, electronic information systems are developing quickly towards further miniaturization and monolithic integration so as to realize smaller volume, higher velocity and lower power consumption. For this purpose, the integration of all sorts of active devices (mainly fabricated by semiconductors) with passive devices (fabricated by functional materials) is particularly important and impendent. Therefore, it is necessary to integrate multifunctional oxide dielectrics possessing electric, magnetic, acoustic, optical and thermal properties characterized by spontaneous polarization with semiconductors bearing the characters of carrier transportation to form artificial structures via deposition of solid films. This kind of integrated films may have two characters, i.e., the all-in-one multifunction and modulation of electromagnetic properties by hetero-interface. This makes it possible to realize mono-lithic integration of detecting, processing, transmission, executing and storing of electronic information. Meanwhile, possible integrated coupling effects will be pursued instead of exploring the limited physical properties of the related materials. In this paper, we put forward a new direction of developing electronic devices with higher performances, and demonstrate some results concerning our recent research on the interface-controllable integrated growth of dielectrics and GaN. Recent progresses of the related research in the world are also reviewed.
LI YangRong ZHU Jun LUO WenBo LIU XingZhao ZHANG WanLi
关键词:生长介质电子信息系统单片集成半导体制造
以TiO_2为缓冲层在GaN上外延生长PZT铁电薄膜被引量:2
2010年
采用脉冲激光沉积技术在(0001)取向的GaN基片上以TiO2为缓冲层外延生长了PZT(111)单晶薄膜。X射线衍射分析表明PZT(111)衍射峰的摇摆曲线半高宽为0.4°,说明薄膜结晶性能良好。PZT薄膜疲劳特性测试结果表明,在经过107次翻转后PZT薄膜的剩余极化强度开始出现下降。P-E电滞回线和I-V测试表明PZT薄膜矫顽场(2Ec)为350 kV/cm,剩余极化(2Pr)约为96μC/cm2,在1 V电压下薄膜的漏电流密度为1.5×10-7A/cm2。以上性能测试结果表明,在半导体GaN上外延生长的PZT铁电薄膜性能基本满足铁电随机存储器的需要。
李理朱俊罗文博
关键词:脉冲激光沉积PZTTIO2缓冲层GAN
脉冲激光沉积法在GaN基片上制备c轴取向LiNbO_3薄膜被引量:1
2010年
采用LiNbO3单晶靶材,以激光脉冲沉积方法在六方GaN(0001)基片上沉积制备c轴取向的LiNb03薄膜。利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(ARM)研究了沉积温度和氧气压强对生长的薄膜的相组成、外延关系、表面形貌、晶粒大小的影响。结果显示,沉积温度500℃、氧分压20~30Pa是在GaN基片上生长C轴取向LiNbO3薄膜的最优生长条件。XRD分析表明,生长的LiNbO3薄膜具有两种晶畴结构,其外延关系分别为[1-100](0001)LiNbO3//[11-20](0001)GaIN和[10-10](0001)LiNbO3//[-12—10](0001)GaN。SEM和AFM对薄膜的表面形貌表征表明,在最优生长条件下沉积的薄膜表面平整,致密度好。
廖秀尉朱俊罗文博郝兰众
关键词:C轴取向脉冲激光沉积XRD
脉冲激光沉积法在蓝宝石衬底上制备a轴取向YSZ薄膜被引量:1
2010年
采用脉冲激光沉积方法,通过金红石相TiO2(200)纳米诱导层在蓝宝石衬底上生长了(200)取向的萤石相钇稳定氧化锆(YSZ)薄膜。通过反射式高能电子衍射对薄膜生长过程进行原位监测;用XRD分析进行后位的薄膜结构表征;使用原子力显微镜来观测薄膜的形貌及晶粒大小。结果表明,我们成功地在蓝宝石衬底上外延了具有三重旋转织构的a轴取向萤石相YSZ薄膜,其外延关系为YSZ(200)∥TiO2(200)∥Al2O3(0001);YSZ[010]∥TiO2[001]∥Al2O3[11-20]。
经晶朱俊罗文博张鹰李言荣
关键词:YSZ薄膜脉冲激光沉积
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