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不同剂量中波紫外线照射对角质形成细胞增殖活力和自噬体表达影响的研究被引量：8: 2013年; 目的观察HaCaT细胞和原代角质形成细胞接受不同剂量中波紫外线（UVB）照射后细胞增殖活力和自噬体表达水平的变化，并初步评估增殖活力损伤程度和自噬体表达水平之间的相关性。方法两种细胞各分为5组，对照组、5、10、20、40mJ／cm^2UVB照射组，照射结束后12h进行MTr实验或单丹（磺）酰戊二胺（MDC）染色，全波长酶标仪下读取各孔A值，倒置荧光显微镜下随机选取视野，计数每视野下自噬体表达阴性细胞和阳性细胞数目。结果经不同剂量UVB照射后，HaCaT细胞的增殖活力（A值）较原代角质形成细胞下降更明显，其中HaCaT细胞10、20、40mJ／cm^2照射组（A值分别为1．367±0．035、1．173±0．034、0．873±0．025）两两之间以及与对照组（1．519±0．022）之间差异均有统计学意义（P〈0．01）；原代角质形成细胞仅10、20、40mJ／cm^2 UVB照射组（A值分别为0．782±0．012、0．773±0．021、0．725±0．031）与对照组（0．887±0．035）之间差异有统计学意义（P〈0．05）。5、10、20mJ／cm^2 UVB照射后两种细胞MDC染色，自噬体表达阳性的细胞比率均出现增加，但照射量至40m．1／cm^2 时则出现下降，以原代角质形成细胞下降更明显，其中HaCaT细胞10mJ／cm^2 和20mJ／cm^2 UVB照射组自噬体表达阳性率（分别为22．69％±2．15％、28．10％±2．92％）较对照组（10．18％±1．50％）有显著上升，而40mJ／cm^2 组自噬体表达上升幅度出现下降（趋势卡方检验r=27．48，P〈0．01）；原代角质形成细胞对照组、5、10、20mJ／cm2组间自噬体阳性率变化不大，但40mJ／cm2组表达出现明显抑制（趋势卡方检验r=6．86，P〈0．01）。结论UVB对HaCaT细胞和原代角质形成细胞增殖活力的损伤均有剂量依赖性，原代角质形成细胞更耐受UVB损伤；5、10、20mJ／cm2UVB照射能促进14aCaT细胞自噬体表达增加，且有剂量依赖性，�; 黄丹任发亮陈旭陈崑顾恒; 关键词：角质形成细胞自噬体紫外线

UVB对雷帕霉素处理后HaCaT细胞增殖活力的影响: 2013年; 目的:研究HaCaT细胞经雷帕霉素处理后对不同剂量中波紫外线(UVB)照射的HaCaT细胞增殖活力的影响。方法:培养的细胞分为实验组(照射前雷帕霉素预孵育)和对照组(未加药组),两组各分5小组,均分别接受0、5、10、20和40 mJ/cm^2剂量的UVB照射。MDC染色观察自噬体表达水平。MTT法检测细胞接受UVB照射后12小时吸光度(OD)值。结果:雷帕霉素处理后细胞的自噬体表达明显高于对照组;在0、5、10和20 mJ/cm^2 UVB照射组的OD值均低于对照组,而在40 mJ/cm^2 UVB组OD值高于对照组,差异均有统计学意义(P<0.05)。结论:雷帕霉素预处理提高HaCaT细胞自噬水平后,对小剂量UVB照射后的HaCaT细胞增殖活力无保护作用,但对较大剂量UVB照射后HaCaT细胞增殖活力有保护作用。; 黄丹郑云鹏陈崑陈旭任发亮李新宇顾恒; 关键词：自噬 HACAT细胞雷帕霉素细胞增殖

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国家教育部博士点基金(2011110611041)

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