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国家重点基础研究发展计划(TG2007CB307004)

作品数:3 被引量:3H指数:1
相关作者:张国义于彤军康香宁陈志忠齐胜利更多>>
相关机构:北京大学上海蓝光科技有限公司四川大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇理学

主题

  • 3篇氮化镓
  • 2篇特性分析
  • 2篇漏电
  • 2篇漏电流
  • 2篇激光
  • 2篇激光剥离
  • 2篇二极管
  • 2篇发光
  • 2篇发光二极管
  • 1篇遗传算法
  • 1篇外量子效率
  • 1篇量子效率
  • 1篇铝镓氮
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体生长
  • 1篇蓝光
  • 1篇蓝光LED
  • 1篇激活能
  • 1篇光谱
  • 1篇红外

机构

  • 5篇北京大学
  • 3篇上海蓝光科技...
  • 1篇四川大学

作者

  • 3篇张国义
  • 2篇孙永健
  • 2篇齐胜利
  • 2篇于彤军
  • 1篇龚敏
  • 1篇程兴华
  • 1篇陈志涛
  • 1篇张延召
  • 1篇沈波
  • 1篇石瑞英
  • 1篇刘鹏
  • 1篇杨子文
  • 1篇秦志新
  • 1篇唐龙谷
  • 1篇桑立雯
  • 1篇许正昱
  • 1篇陈志忠
  • 1篇康香宁
  • 1篇于涛

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇物理学报
  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2010
  • 4篇2008
3 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
激光剥离转移衬底的薄膜GaN基LED器件特性分析被引量:2
2008年
制备了基于蓝宝石衬底的GaN基LED(C-LED)以及由激光剥离技术(LLO)制作的基于Cu衬底的相同电学结构的薄膜GaN基LED(LLO-LED)。通过研究发现,经过激光剥离过程后,器件的反向漏电流明显增加,其等效并联电阻下降了近两个数量级。通过对变温I-V曲线的分析,反向偏压下隧穿漏电机制的主导地位被发现并证实,而激光剥离前后样品腐蚀后的AFM照片显示缺陷密度没有明显改变。隧穿机制的增加是由于激光剥离过程激发了更多缺陷的隧穿活性。然而,蓝宝石衬底LED以及激光剥离薄膜Cu衬底LED的相似的理想因子和等效串联电阻说明激光剥离过程并未对器件的正向电学特性造成大的伤害。因此,高质量、高功率的激光剥离LED器件是可以期待的。对L-I曲线的分析显示,激光剥离过程引入了更多的非辐射复合中心,但激光剥离薄膜Cu衬底LED器件在大电流注入下仍然有着超出常规器件的表现。在300mA注入电流内,激光剥离薄膜Cu衬底LED展示的最大光功率是蓝宝石衬底GaN基LED的1.8倍,饱和电流超过2.5倍。这些结果显示,激光剥离Cu衬底LED仍然是高功率高亮LED的首选方案。
孙永健陈志忠齐胜利于彤军康香宁刘鹏张国义朱广敏潘尧波陈诚李仕涛颜建峰郝茂盛
关键词:氮化镓发光二极管激光剥离漏电流
采用AlGaN/GaN阻挡层的大功率InGaN/GaN MQWs蓝光LED
大功率InGaN/GaN多量子阱蓝光发光二极管在大注入电流下,载流子泄漏而引起的效率下降问题是目前限制大功率发光二极管光电特性及其应用的突出问题。本文通过在p型GaN和InGaN/GaN多量子阱(MQW)有源区之间插入p...
齐胜利陈志忠潘尧波郝茂盛邓俊静田朋飞张国义颜建锋朱广敏陈诚李士涛
关键词:氮化镓外量子效率
文献传递
激光剥离转移衬底的薄膜GaN基LED器件特性分析
制备了基于蓝宝石衬底的GaN基LED(C-LED)以及由激光剥离技术(LLO)制作的基于Cu衬底的相同电学结构的薄膜GaN基LED(LLO-LED)。通过研究发现,经过激光剥离过程后,器件的反向漏电流明显增加,其等效并联...
孙永健陈志忠齐胜利于彤军康香宁刘鹏张国义朱广敏潘尧波陈诚李仕涛颜建峰郝茂盛
关键词:氮化镓发光二极管激光剥离漏电流
文献传递
GaMnN材料红外光谱中洛伦兹振子模型的遗传算法研究被引量:1
2008年
利用红外反射光谱研究了蓝宝石衬底上用金属有机物化学气相淀积方法生长的稀磁半导体GaMnN材料的晶格振动特性.并成功地将改进的遗传算法应用于其红外反射光谱洛伦兹振子模型参数的提取.通过与GaN薄膜的洛伦兹振子模型参数的对比研究发现,GaN掺入Mn后,ωTO向高频方向移动,γ,ε∞和εs均增加,而ωLO基本保持不变.文中同时分析和讨论了Mn对晶格振动特性的影响及介电函数变化的机理.
程兴华唐龙谷陈志涛龚敏于彤军张国义石瑞英
关键词:遗传算法
In气氛下晶体生长对Mg掺杂p-AlxGa1-xN激活能的影响
2010年
Ⅲ-Ⅴ族氮化物宽禁带半导体材料体系中,普通方法生长的p型外延层电导率一般都很低,成为了制约器件性能提高的瓶颈。在p-AlxGa1-xN材料中,Mg受主的激活能较大,并且随Al组份增加而增大。通过在p-AlxGa1-xN材料生长过程中引入三甲基铟(TMIn),发现能有效地降低AlxGa1-xN材料中受主态的激活能。为研究不同In气氛下生长的p-AlxGa1-xN材料的性质,在使用相同二茂基镁(CP2Mg)的情况下,改变TMIn流量,生长了A,B,C和D四块样品。X射线衍射(XRD)组份分析表明:在1100℃下生长AlxGa1-xN外延层时,In的引入不会影响晶体组份。利用变温霍尔(Hall)测试研究了p-AlxGa1-xN材料中受主的激活能,结果表明:In气氛下生长的外延层相比无In气氛下生长的外延层,受主激活能明显降低,电导率显著提高。采用这种方法改进深紫外发光二极管(LED)的p-AlxGa1-xN层后,LED器件性能明显提高。
张延召秦志新桑立雯许正昱于涛杨子文沈波张国义赵岚张向锋成彩晶孙维国
关键词:激活能
共1页<1>
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